Планар (КБТЭМ)
 
ЭМ-6129 Установка автоматического контроля привносимых дефектов

Установка ЭМ-6129 предназначена для контроля загрязнений поверхности полупроводниковых пластин без топологии.

Установка позволяет выполнять как операции финишного инспекционного контроля на предприятиях-изготовителях полупроводниковых подложек, так и аттестацию технологических операций на привносимую дефектность в кристальном производстве.

 
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Размер минимального обнаруживаемого дефекта, нм35 ... 45
Вероятность обнаружения дефекта с минимальными размерами0.95
Производительность, пластин/ч80
Диаметр контролируемых пластин, мм150, 200 (опция 300)
Потребляемая мощность, не более, Вт700
 

Оборудование для формирования и контроля топологических структур на полупроводниковых пластинах

Оборудование для непосредственного генерирования изображений на полупроводниковые пластины
Оборудование для проекционного переноса изображений на полупроводниковые пластины
Оборудование контактного переноса изображений на подложки и для организации двусторонней литографии
Широкоформатные степперы
Оборудование для контроля полупроводниковых пластин
Контейнеры для хранения фотошаблонов