Планар (КБТЭМ)
 
ЭМ-6479М Установка автоматического контроля привносимых дефектов на пластинах без топологического ри

Установка ЭМ-6479М предназначена для контроля частиц на поверхности полупроводниковых пластин без топологического рисунка.

Принцип действия установки ЭМ-6479М основан на измерении интенсивности света, рассеянного дефектами (частицами) расположенными на поверхности полупроводниковой пластины, освещённой сфокусированным лучом лазера.

Конструкция установки обеспечивает автоматическую загрузку/выгрузку кремниевых пластин из кассеты на позицию контроля, сканирование поверхности пластины лучом лазера. Просканированные пластины выгружаются в туже кассету, из которой загружались.

Контроль поверхности осуществляется спиральным сканированием пластины лучом лазера относительно неподвижного оптического блока.

Установка работает в двух режимах: автоматическом и исследовательском. Исследовательский режим отличается от автоматического тем, что оператор для каждой пластины задаёт свои параметры сканирования, в то время, как в автоматическом режиме все пластины, находящиеся в кассете, проходят контроль с одинаковыми, заранее установленными параметрами сканирования. Сортировка пластин осуществляется по заданным предельным значениям количества частиц с определенной величиной интенсивности рассеянного света, плотности распределения частиц, площади пятен (поверхностных загрязнений) и средней "матовости".

Для каждого из режимов можно выбрать один из 25 стандартных наборов параметров, включающих в себя геометрические параметры, порядок выборки пластин из кассеты, параметры сортировки и др., отредактировать его или создать новый. 

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Минимальный размер обнаруживаемого установкой дефекта, мкм, не более 0.15
Вероятность обнаружения дефекта с минимальными размерами0.95
Производительность при контроле пластин диаметром 150 мм, пластин/ч100*
Диаметр контролируемых пластин, мм100; 150; 200
Потребляемая мощность, не более, Вт700
Габаритные размеры, мм 700х800х1300
Масса, кг220
* - без учёта времени на замену кассет и времени вывода информации
 

Оборудование для формирования и контроля топологических структур на полупроводниковых пластинах

Оборудование для непосредственного генерирования изображений на полупроводниковые пластины
Оборудование для проекционного переноса изображений на полупроводниковые пластины
Оборудование контактного переноса изображений на подложки и для организации двусторонней литографии
Широкоформатные степперы
Оборудование для контроля полупроводниковых пластин
Контейнеры для хранения фотошаблонов