Планар (КБТЭМ)
 
ЭМ-5784 Автоматическая установка совмещения и экспонирования

 


ОТЛИЧИТЕЛЬНЫЕ ОСОБЕННОСТИ УСТАНОВКИ ЭМ-5784:
  • установка производит фотомонтаж изображения, выбирая нужный фрагмент на промежуточном фотошаблоне и проецируя его в определенное поле экспонируемой пластины;
  • источник излучения твердотельный лазер;
  • промежуточный шаблон размещается на координатном столе, который может перемещаться по оси Y с высокой точностью относительно подложки;
  • возможность работы с пьезоэлектрическими подложками: ниобата лития, танталата лития, пьезокварца, лангасита, лангатата и др.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Масштаб изображения1:5
Рабочая длина волны, нм354,7
Разрешение (минимальный размер), мкм0,35
Размер рабочего поля, мм3.2 х 3.2
Числовая апертура объектива0,45-0,61
Диаметр экспонируемых пластин, мм75, 100, 150
Размеры фотошаблонов, мм127 х 127