|
ЭМ-5434М Установка экспонирования для изготовления печатных плат высокой плотности соединений |
|
Степпер ЭM-5434M предназначен для выполнения
технологической операции литографии в производстве печатных плат (IC
Substrate) для технологии сборки микросхем методом Flip Chip (BGA/CSP).
Универсальность установки заключается в возможности
работы с толстым фоторезистом (50 мкм) и управлением углом наклона
стенок фоторезиста.
| ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
|
| Разрешение объектива L/S, мкм | 8 | | Рабочее поле объектива, мм | 70x250; 85x228 | Размеры подложек, мм:
- минимальная
- максимальная |
300x300
610x610 | | Опция световой сшивки неповторяющейся топологии, мм | 210x250 | | Случайная составляющая погрешности совмещения ±3σ, не более, мкм | 1.5 | | Масштаб проекционного переноса | 1:1 | | Автоматическое изменение масштаба, ррm | ±1000 | | Дисторсия объектива, не более, мкм | ±2.5 | | Глубина резкости объектива, мкм | ±100 | | Рабочие длины волн | i-(365нм)
h-(405нм)
g-(436нм) | | Плотность мощности экспонирующего света в плоскости пластины, мВ/см2 | 220 | | Неравномерность освещенности поля изображения, не более, % | ±5 | | Погрешность отработки дозы экспозиции, % | ±3 | | Размер фотошаблона, мм | 254х305 | | Потребляемая мощность, не более, кВт | 7 |
|
|
Планар (КБТЭМ)