Планар (КБТЭМ)
 
ЭМ-6209 Установка измерения координат топологии и контроля совмещаемости фотошаблонов
ЭМ-6209 Установка измерения координат топологии фотошаблонов

Установка ЭМ-6209 предназначена для точного измерения координат элементов топологии и расчета на основании полученных данных совмещаемости фотошаблонов, а также для замены традиционных оптических компараторов при изготовлении изделий микроэлектроники с топологической нормой до 180 нм.

УСТАНОВКА ПРИМЕНЯЕТСЯ ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ КООРДИНАТ ЭЛЕМЕНТОВ НА СЛЕДУЮЩИХ ОБЪЕКТАХ:
  • стеклянные металлизированные фотошаблоны, изготовленные из материала с низким и очень низким коэффициентом теплового расширения;
  • кремниевые подложки типоразмеров 150 мм и 200 мм в соответствии со стандартом SEMI М1-0600.
 
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
 
Размер рабочего поля, не менее 200х200
Предел среднего квадратического отклонения σ (Δ) случайной составляющей погрешности установки при измерении координат элементов топологии фотошаблона на поле 200х200 мм при доверительной вероятности Р=0.95, не более, нм5
Предел основной погрешности Δ измерения координат элементов топологии фотошаблона, обусловленной искажениями координатной системы установки на поле 200х200 мм, при доверительной вероятности Р=0.95, не более, нм20
Предел основной погрешности Δ измерения интервала длиной 200 мм по координатным осям X и Y установки при доверительной вероятности Р=0.95, не более, нм20