|
ЭМ-6309 Установка измерения координат топологии и контроля совмещаемости фотошаблонов |
|
Установка ЭМ-6309 предназначена для точного
контроля координат элементов топологии и расчета на основании
полученных данных совмещаемости фотошаблонов, а также для замены
традиционных оптических компараторов при изготовлении изделий
микроэлектроники с топологической нормой до 180 нм.
| УСТАНОВКА ПРИМЕНЯЕТСЯ ДЛЯ ИЗМЕРЕНИЯ КООРДИНАТ ЭЛЕМЕНТОВ НА СЛЕДУЮЩИХ ОБЪЕКТАХ: |
|
- стеклянные металлизированные фотошаблоны, изготовленные из материала с низким и очень низким коэффициентом теплового расширения;
- кремниевые подложки типоразмеров 150 мм и 200 мм в соответствии со стандартом SEMI М1-0600.
| ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
|
| Размер рабочего поля, не менее | 200х200 | | Предел среднего квадратического отклонения σ (Δ) случайной составляющей погрешности установки при измерении координат элементов топологии фотошаблона на поле 200х200 мм при доверительной вероятности Р=0.95, не более, нм | 5 | | Предел основной погрешности Δ измерения координат элементов топологии фотошаблона, обусловленной искажениями координатной системы установки на поле 200х200 мм, при доверительной вероятности Р=0.95, не более, нм | 20 | | Предел основной погрешности Δ измерения интервала длиной 200 мм по координатным осям X и Y установки при доверительной вероятности Р=0.95, не более, нм | 20 |
|
Планар (КБТЭМ)
