«КБТЭМ-ОМО»
ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО
 
ЭМ-6015М1 Автоматизированная установка контроля микроизображений

 

ЭМ-6015М1 Автоматизированная установка контроля микроизображений

Установка ЭМ-6015М1 предназначена для контроля размеров и обнаружения дефектов и загрязнений топологических структур, сформированных на полупроводниковых пластинах и масках фотошаблонов в технологических процессах производства изделий микроэлектроники.

Однако область ее применений может быть расширена в другие сферы, такие как материаловедение, машиностроение, металлография, криминалистика, реставрация, производство новых материалов и для решения исследовательских задач в университетах и учебных заведениях.

Особенности установки:
- телецентрическая оптика;
- система лазерной автофокусировки;
- наличие функции сравнения изображений, программная регулировка увеличения, панорамная сшивка граничных фрагментов изображений и т.п.;
- осуществление калибровки путём измерений аттестованных размеров на тест – объекте;
- применение светодиодов (что увеличивает срок службы источников освещения и снижает энергопотребление);
- наличие механических изоляторов вибраций.

 

 

Перечень автоматизированных функций:
- Горизонтальное и вертикальное перемещение образца.
- Изменение увеличения путем смены объектива.
- Регулирование интенсивности света.
- Фокусировка (динамическая лазерная и статическая по изображению).
- Контроль размеров микроструктур.
- Выход в зону расположения контролируемой структуры.
- Статистическая обработка данных контроля.

 

Технические характеристики установки 

Количество объективов, шт. 3
Минимальный рабочий отрезок объективов, мм 10
Числовые апертуры объективов 0,15 ... 0,5
Увеличение объективов 5х ... 50х
Поле зрения объективов, мм 0.44 ... 4,4
Поле зрения на мониторе (диагональ), мм 0,3 ... 3
Увеличение окуляров 10
Полезное электронное увеличение 40
Общее увеличение при наблюдении через окуляры 50х ... 500х
Общее увеличение при наблюдении на мониторе до 2000х
Разрешение видеокамеры, Мп 8
Разрешение монитора 4K
Ход координатного стола для X, Y и Z, мм 200х200х27
Размеры ШхГхВ, м 1,2х0,8х1,5
Потребляемая мощность от сети 230В, Вт не более 700
Общая масса, кг не более 175
Максимальная потребляемая мощность, Вт не более 700
 

 

 

Оборудование для формирования и контроля топологических структур на полупроводниковых пластинах

Оборудование для непосредственного генерирования изображений на полупроводниковые пластины
Оборудование для проекционного переноса изображений на полупроводниковые пластины
Оборудование контактного переноса изображений на подложки и для организации двусторонней литографии
Широкоформатные степперы
Оборудование для контроля полупроводниковых пластин