Планар (КБТЭМ)
 
ЭМ-6015М1 Автоматизированная установка контроля микроизображений

 

ЭМ-6015М1 Автоматизированная установка контроля микроизображений

Установка ЭМ-6015М1 предназначена для контроля размеров и обнаружения дефектов и загрязнений топологических структур, сформированных на полупроводниковых пластинах и масках фотошаблонов в технологических процессах производства изделий микроэлектроники.

Однако область ее применений может быть расширена в другие сферы, такие как материаловедение, машиностроение, металлография, криминалистика, реставрация, производство новых материалов и для решения исследовательских задач в университетах и учебных заведениях.

ОСОБЕННОСТИ УСТАНОВКИ:

- телецентрическая оптика;
- система лазерной автофокусировки;
- наличие функции сравнения изображений, программная регулировка увеличения, панорамная сшивка граничных фрагментов изображений и т.п.;
- осуществление калибровки путём измерений аттестованных размеров на тест – объекте;
- применение светодиодов (что увеличивает срок службы источников освещения и снижает энергопотребление);
- наличие механических изоляторов вибраций.


ПЕРЕЧЕНЬ АВТОМАТИЗИРОВАННЫХ ФУНКЦИЙ:

- Горизонтальное и вертикальное перемещение образца.
- Изменение увеличения путем смены объектива.
- Регулирование интенсивности света.
- Фокусировка (динамическая лазерная и статическая по изображению).
- Контроль размеров микроструктур.
- Выход в зону расположения контролируемой структуры.
- Статистическая обработка данных контроля.


ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Количество объективов, шт.3
Минимальный рабочий отрезок объективов, мм10
Числовые апертуры объективов0.15 ... 0.5
Увеличение объективов5х ... 50х
Поле зрения объективов, мм0.44 ... 4.4
Поле зрения на мониторе (диагональ), мм0.3 ... 3
Увеличение окуляров10
Полезное электронное увеличение40
Общее увеличение при наблюдении через окуляры50х ... 500х
Общее увеличение при наблюдении на мониторедо 2000х
Разрешение видеокамеры, Мп8
Разрешение монитора4K
Ход координатного стола для X, Y и Z, мм200х200х27
Размеры ШхГхВ, м1.2х0.8х1.5
Потребляемая мощность от сети 230В, Вт не более200
Общая масса, кг не более175
 

Оборудование для формирования и контроля топологических структур на полупроводниковых пластинах

Оборудование для непосредственного генерирования изображений на полупроводниковые пластины
Оборудование для проекционного переноса изображений на полупроводниковые пластины
Оборудование контактного переноса изображений на подложки и для организации двусторонней литографии
Широкоформатные степперы
Оборудование для контроля полупроводниковых пластин
Контейнеры для хранения фотошаблонов