Планар (КБТЭМ)
 
ЭМ-5096 Установка совмещения и экспонирования

 ЭМ-5096 Установка совмещения и экспонирования

Установка ЭМ-5096 предназначена для совмещения изображения фотошаблона и пластины (подложки) и переноса изображений с фотошаблона на пластину контактным (в зазоре) экспонированием фоторезистивного слоя пластин (подложки).

УСТАНОВКА ЭМ-5096 ИМЕЕТ АВТОМАТИЧЕСКИЕ СИСТЕМЫ:

- компенсации клина и разнотолщинности пластин без контакта с фотошаблоном;
- выхода на заданный оператором зазор совмещения;
- экспонирования фоторезиста на пластине;
- режим энергосбережения.

Загрузка-выгрузка пластин и подложек на рабочий столик осуществляется оператором вручную.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
 
Диапазоны рабочих длин волн*, нм225-260; 280-335; 350-450
Фотолитографическое разрешение, мкм0.4 ... 0.6
Неравномерность освещенности рабочего поля диаметром 76 мм, %±2
Случайная составляющая погрешности совмещения, мкм±0.1
Диаметр обрабатываемых пластин*, мм76 (16, 20, 25, 30, 40, 50, 60); 60x48; 48x30
Размер фотошаблонов*, мм76х76, 102х102
Чувствительность привода манипулятора совмещения 
- по X, Y, мкм0.01
- по углу, секунд0.1
Двупольный микроскоп с расщепленным полем и плавным изменением увеличения**
-с объективами ОМ 0,4/8 и окулярами 10х 150х ... 480х
-с объективами ОМ 0,2/14 и окулярами10х 90х ... 250х
Потребляемая мощность, не более, Вт800
*Уточняется при заказе
**Одновременный вывод изображения с микроскопа на экран монитора