ЭМ-5096 Установка совмещения и экспонирования |

Установка ЭМ-5096 предназначена для совмещения
изображения фотошаблона и пластины (подложки) и переноса изображений с
фотошаблона на пластину контактным (в зазоре) экспонированием
фоторезистивного слоя пластин (подложки).
УСТАНОВКА ЭМ-5096 ИМЕЕТ АВТОМАТИЧЕСКИЕ СИСТЕМЫ: |
|
- компенсации клина и разнотолщинности пластин без контакта с фотошаблоном;
- выхода на заданный оператором зазор совмещения;
- экспонирования фоторезиста на пластине;
- режим энергосбережения.
Загрузка-выгрузка пластин и подложек на рабочий столик осуществляется оператором вручную.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
|
Диапазоны рабочих длин волн*, нм | 225-260; 280-335;
350-450 | Фотолитографическое разрешение, мкм | 0.4 ... 0.6 | Неравномерность освещенности рабочего поля диаметром 76 мм, % | ±2 | Случайная составляющая погрешности совмещения, мкм | ±0.1 | Диаметр обрабатываемых пластин*, мм | 76 (16, 20, 25, 30, 40, 50, 60); 60x48; 48x30 | Размер фотошаблонов*, мм | 76х76, 102х102 | Чувствительность привода манипулятора совмещения | | - по X, Y, мкм | 0.01 | - по углу, секунд | 0.1 | Двупольный микроскоп с расщепленным полем и
плавным изменением увеличения** | -с объективами ОМ 0,4/8 и окулярами 10х |
150х ... 480х | -с объективами ОМ 0,2/14 и окулярами10х |
90х ... 250х | Потребляемая мощность, не более, Вт | 800 | *Уточняется при заказе
**Одновременный вывод изображения с микроскопа на экран монитора | |
|