«КБТЭМ-ОМО»
ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО
 
Установки автоматического контроля топологии фотошаблонов

 

Установки автоматического контроля топологии фотошаблонов

Контроль топологических рисунков имеет решающее значение для изготовления бездефектных шаблонов. Для этого применяются как отдельные микроскопы, так и мощные оптические системы для субмикронных структур.

 

В ОАО «КБТЭМ-ОМО» разработан модельный ряд установок автоматического контроля оригиналов топологии на фотошаблонах.
Создание систем для уровня технологии 45-60 нм - требование времени.

Выпуск с 2009г. 7 поколение: уровень технологии 65-45 нм ЭМ-6729 Rmin=65 нм
Выпуск с 2008г. 6 поколение: уровень технологии 110 нм ЭМ-6329Б Rmin=150нм
Выпуск с 2006г. 5 поколение: уровень технологии 180 нм ЭМ-6329Р Rmin=250 нм
Выпуск с 2001г. 4 поколение: уровень технологии 350 нм ЭМ-6029Б Rmin=500 нм
Выпуск с 1995г. 3 поколение: уровень технологии 800 нм ЭМ-6029АМ Rmin=800 нм

 

 
 

 

 

KBTEM-OMO year og science