|
УСТАНОВКИ ЛАЗЕРНОГО УСТРАНЕНИЯ ДЕФЕКТОВ ФОТОШАБЛОНОВ |
|
Этот вид оборудования в комплексе оборудования для фотошаблонного производства занимает неоспоримо важную роль как финишер изготовления бездефектных структур, в том числе на этом этапе должны выполняться работы таким образом, чтобы не допустить внесение новых дефектов собственными процессами установки. Современное оборудование многофункционально, помимо целевых функций они оснащаются сопутствующими, в результате получается синергия уникальных возможностей. Таковыми являются установки, изготавливаемые нашим предприятием для устранения дефектов фотошаблонов.
В процессе производства фотошаблонов выделяют две основные группы дефектов- прозрачные (отсутствие части элементов топологии) и непрозрачные (лишние части элементов топологии).
Для ремонта непрозрачных дефектов устраняется контрольно-проекционный метод формирования оптического изображения.
Для ремонта прозрачных дефектов используется метод лазерно-стимулированного осаждения металлоорганического соединения. Выход в зону дефекта осуществляется автоматически на основе протокола дефектов, формируемых установкой автоматического контроля дефектов.
| Выпуск с 2017 г. | 7 поколение: уровень технологии 65 нм | ЭМ-5141 | Rmin=150 нм | | Выпуск с 2009 г. | 6 поколение: уровень технологии 90 нм | ЭМ-5131 | Rmin=250 нм | | Выпуск с 2007 г. | 5 поколение: LCD (поле 900х600 мм) | ЭМ-5201 | Rmin=500 нм | | Выпуск с 2001 г. | 4 поколение: уровень технологии 350 нм | ЭМ-5001Б | Rmin=500 нм | | Выпуск с 1995 г. | 3 поколение: уровень технологии 800 нм | ЭМ-5001АМ | Rmin=1.1 мкм |
|
|
Планар (КБТЭМ)
