Планар (КБТЭМ)
 
УСТАНОВКИ КОНТРОЛЯ МИКРОРАЗМЕРОВ И КООРДИНАТ ТОПОЛОГИИ ФОТОШАБЛОНОВ

Этот класс оборудования предназначен для контроля рабочих шаблонов для серийного и мелкосерийного полупроводниковых производств- вопросы соответствия проектным нормам, размерам и координатам размещения элементов топологии на фотошаблонах другими способами не решишь, в противном случае невозможно экономически выгодно производить полупроводниковые изделия и понимать и видеть весь технологический процесс в комплексе.

 
МОДЕЛЬНЫЙ РЯД УСТАНОВОК КОНТРОЛЯ МИКРОРАЗМЕРОВ И КООРДИНАТ ТОПОЛОГИИ ФОТОШАБЛОНОВ



 


ЭМ-6339
Установка автоматизированного контроля микроразмеров

 


ЭМ-6209
Установка измерения координат топологии и контроля совмещаемости фотошаблонов