|
ЭМ-5079-1 Высокопроизводительный генератор изображений |
|
ЭМ-5079-1 Высокопроизводительный генератор изображений с применением технологии пространственно-световой модуляции.
Генератор изображения позволяет формировать
топологию на полупроводниковых подложках и при этом обеспечивать
совмещение с предыдущими слоями (безмасковая оптическая литография).
Изображение формируется по принципу растрового сканирования с
использованием 16-канальной архитектуры.
В системе экспонирования применяется непрерывный
твердотельный лазер с длиной
волны 355 нм.
Мощность лазера 250 мВт.
Гарантия 13 месяц или 10 000 часов (что наступит ранее).
| ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
|
| Размер минимального элемента, нм | 600 | | Время экспонирования области 100х100мм, мин | 70 | | Размер поля экспонирования, мм | 215х215 | | Совмещаемость слоев, нм | 70 | | Неровность края элементов топологии, нм | 40 | | Дискретность адресной сетки, нм | 1.25 | | Потребляемая мощность, не более, кВт | 5 |
|
Планар (КБТЭМ)