|
ОБОРУДОВАНИЕ ДЛЯ НЕПОСРЕДСТВЕННОГО ГЕНЕРИРОВАНИЯ ИЗОБРАЖЕНИЙ НА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ПЛАСТИНЫ |
|
Генераторы изображений производятся на базе самых современных технологий. Современные многолучевые лазерные генераторы изображений позволяют получать изображение топологии непосредственно на подложках исключив процесс изготовления фотошаблонов. Данная технология получила название оптическая безмасочная литография. В технической англоязычной литературе данная технология получила название "Optical maskless lithography" или сокращенно "OML2".
Многоканальные лазерные генераторы изображений нашего предприятия обладают уникальными функциональными свойствами:
- формирование изображений непосредственно на полупроводниковых пластинах (размер кристалла ограничен требованиями конструкции и пластины);
- формирование топологии слоя на подложке, совмещенного с предыдущими слоями;
- точность совмещения выше чем на установках проекционного экспонирования;
- высокая точность передачи топологии по сравнению с проекционной фотолитографией;
- возможность оперативной корректировки топологии с целью устранения допущенных ошибок или подгонки элементов;
- малое время от разработки топологии до изготовления опытных образцов.
Такая универсальность генераторов изображений и высокие технические характеристики является востребованными для больших и малых предприятий микроэлектроники и научных учреждений.
|
Планар (КБТЭМ)
