«КБТЭМ-ОМО»
ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО
 
Список публикаций, научных трудов сотрудников ОАО "КБТЭМ ОМО"

Название 

Изд-во, журн. (название, №, год)

Фамилии авторов, соавторов 

Аннотация 

Статья "Контроль микроразмеров в производстве ИС. Задачи и особенности"

"Электроника НТБ", № 3, 2011  

Г.А.Трапашко

 

"Оптические технологии микро- и наноэлектроники

 Учебно-методическое пособие, 2010 г.

Я.И.Точицкий

 

Статья "Лазерное оборудование для изготовления фотошаблонов"

"Электроника: Наука, Технология, Бизнес", № 3 2010 г.

С.М.Аваков, В.Русецкий, Л.Пушкин, Г.Трапашко, В. Юдицкий.

 

Статья "Лазерная литография. Коррекция формы субмикронных элементов"

"Электроника: Наука, Технология, Бизнес", № 8 2009 г.

С.М.Аваков, В.Беспалов, В.Овчинников, Л.Пушкин, Е.А.Титко

 

Тезисы доклада "новое специальное, технологическое, контрольно-измерительное и сборочное оборудование для производства изделий микроэлектроники"

Сборник тезисов докладов VIII отраслевой научно-технической конференции "Радиоэлектронные технолонии: состояние и перспективы развития" (РФ, г.Воронеж, 17-19.09.2009)

С.М.Аваков, Г.Ф.Ковальчук

 

Статья "Оборудование ГНПО "Планар" - регионам России"

"Электроника: Наука, Технология, Бизнес", № 3 2009 г.

С.М.Аваков, Г.Ф.Ковальчук, С.А.Русецкий, Е.А.Титко

 

Статья "Современные методы упаковки интегральных схем. Фотолитография и оборудование. Часть 2".

"Электроника: Наука, Технология, Бизнес",  № 6, 2008 г .

А.С.Агейченко 

 

Статья "Современные методы упаковки интегральных схем. Фотолитография и оборудование. Часть 1".

"Электроника: Наука, Технология, Бизнес",  № 4, 2008 г .

А.С.Агейченко 

 

Доклад «Новые системы оборудования ГНПО «Планар»(Беларусь)- регионам России ( состояние и перспективы развития специального технологического и контрольно-измерительного оборудования для формирования топологических структур и сборки полупроводниковых приборов)».

Сборник докладов конференции «Инновационные технологии радиоэлектронного комплекса – регионам  России», г.Санкт-Петербург, 24-26 сентября 2008г.

С.М. Аваков, Г.Ф.Ковальчук, С.А. Русецкий.

 

Статья "Методы устранения дефектов топологии интегральных микросхем на фотошаблонах"

 

"Известия высших учебных заведений. Электроника", № 6, 2008 г . С.20-29

 

С.М.Аваков , В.А.Беспалов , В.А.Овчинников , Д.В.Базанов 

 

   

Проанализированы методы устранения дефектов топологии интегральных микросхем на фотошаблонах. Выявлены наиболее эффективные методы устранения прозрачных и непрозрачных дефектов при производстве фотошаблонов под уровень ИС с нормами до 90 нм.

Статья "Комплексы оптико-механического оборудования для бездефектного изготовления фотошаблонов уровня 0,35мкм и 90 нм"

«Фотоника»

 ( приложение к журналу «Электроника НТБ», изд. ЗАО «Техносфера»), 2007 г

С.М. Аваков, В.А. Овчинников, Е.А. Титко, Г.А. Трапашко.

 

Статья "Операции контроля топологии в технологическом процессе изготовления фотошаблонов"

"Электроника инфо", БГУ, г. Минск,2007 г.

С.М. Аваков, С.Е. Карпович, В.А. Овчинников, Е.А.Титко.

 

Статья "Методы получения субпиксельного разрешения при автоматическом контроле оригиналов топологии интегральных схем"

 «Вестник БНТУ»,2007 г.

С.М. Аваков

 

Доклад "Комплекс спецтехнологического оборудования для бездефектного изготовления фотошаблонов"

 

Тезисы докл. в "Сборнике трудов 23-ей Европейской конференции "Шаблоны и фотолитография", EMLC -2007, 22-25 января 2007 г ., г. Гренобль, Франция.

С.М. Аваков , В.А. Юдицкий, Л.В. Пушкин, Е.А. Титко

 

 

Статья "Фотолитографическое и контрольное оборудование в МСТ-технологии МЭМС- и МОЭМС-устройств".

 

Нано- и микросистемная техника  № 1, 2007 с. 61-65

 

к.т.н. Я.И.Точицкий 

 

Рассмотрены технологические процессы фотолитографии, применяемые при изготовлении МЭМС- и МОЭМС-устройств. Предложены пять вариантов технологических маршрутов и комплекты оптико-механического оборудования для выполнения основных и контрольных фотолитографических операций для изготовления МСТ-приборов. 

Методика определения способности обнаружения изолированных дефектов при автоматическом контроле оригиналов топологии на фотошаблонах методом сравнения с проектными данными

Доклады БГУИР, июль-сентябрь 2007 г., № 3 (19)

С.М.Аваков

 

Доклад "Оптико-механическое технологическое и контрольно-измерительное оборудование в производстве телевизионных фотоэлектрических приборов"

 

сборнике тезисов докладов ХIII Юбилейной научно-технической  конференции «Современные проблемы телевизионных фотоэлектрических приборов», посвященной 50-летию ОАО «ЦНИИ» Электрон», г. Санкт-Петербург, 9-20 апреля 2006 года.

С. М.Аваков, Я. И.Точицкий

 

 

Статья «Применение оборудования для автоматического контроля планарных структур в производстве интегральных схем на шаблонах»

«Вестник БНТУ», 2007 г .

С.М.Аваков

 

 

 Доклад « Методика определения способности обнаружения прилегающих дефектов при автоматическом контроле топологии фотошаблонов »

Публикация  в сборнике трудов 13-го Международного симпозиума «Photomask Japan» (Yokohana, Kanagawa Japan),

18-20 апреля 2006 года

С.М.Аваков, А.И.Корнелюк, Е.А.Титко.

 

 

Доклад « Методика определения способности обнаружения прилегающих дефектов при автоматическом контроле топологии фотошаблонов методом сравнения с проектными данными »

Публикация  в сборнике трудов 22-ой Европейской конференции «Шаблоны и фотолитография», ЕМLC 2006, Дрезден, Германия, 23-26 января 2006 года.

С.М.Аваков, А.И.Корнелюк, Е.А.Титко.

 

 

 

Статья «Точность процессов фотолитографии  и фотолитографического оборудования»

 

«Нано- и микросистемная техника»,  № 12, 2006, с. 47-52

 

Я.И.Точицкий, А.А.Васильев, В.М.Есьман 

 

Основные параметры микро- и наноэлектроники зависят от геометрической точности процессов формирования структур, которые определяются точностью процессов и оборудования для фотолитографии. Из двух параметров — точности размера элемента (CD) и погрешности совмещения слоев (overlay), определяющим является погрешность совмещения. Способы уменьшения этой погрешности в фотолитографии и в фотолитографическом оборудовании рассмотрены в настоящей статье.

 

Доклад «Современное оборудование для производства изделий электронной техники»   

Сборник трудов научно-практ.развития радиоэлектронного комплекса, проблемы и задачи», г.Санкт-Петербург, 26-30 сентября 2005

 С.М.Аваков , С.Б.Школык

 

Доклад «Широкоформатные степперы УП «КБТЭМ-ОМО» концерна Планар»

 

II-ая международная науч.-практич. конференция «Прецизионное оборудование в технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»

Сборник тезисов докладов, Минск 2005

А.С. Агейченко

 

Доклад «Фотолитографическое оборудование для новой технологии сборки микросхем»

 

Тезисы докл. науч.-практич. конференции «Прецизионное оборудование в технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»

Сборник тезиов докладов I (II) международная научно-практическая конференция, Минск 2004

А.С.Агейченко 

докт. техн. наук, профессор В.Е.Матюшков 

 

 

 Доклад « Состояние и перспективы развития оптико-механического оборудования концерна «Планар»

II-ая международная научно-практическая конференция «Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»

Сборник тезисов докладов 20-21 октября 2005 г ., г.Минск.

С.М.Аваков, В.П.Зуев

 

 «Точность процессов фотолитографии и фотолитографического оборудования»

II-ая международная научно-практическая конференция «Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»

Сборник тезисов докладов 20-21 октября 2005 г ., г.Минск.

Я.И.Точицкий, А.А. Васильев

 

 «Основные аспекты лазерного ремонта шаблонов»

II-ая международная научно-практическая конференция «Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»

Сборник тезисов докладов 20-21 октября 2005 г ., г.Минск.

В.А.Юдицкий, А.И.Чеботарь, Д.И.Лакин, А.И.Дедков, В.Л.Широкий 

  

«Комплект интерферометрический»

 

II-ая международная научно-практическая конференция «Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»

Сборник тезисов докладов 20-21 октября 2005 г ., г.Минск.

В.М.Есьман, Е.И.Кока, И.И.Постоялко 

 

 

«Установка контроля отклонений от плоскости полупроводниковых пластин ЭМ-6319 с расширенными функциональными возможностями»

 

II-ая международная научно-практическая конференция «Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»

Сборник тезисов докладов 20-21 октября 2005 г ., г.Минск.

А.И.Корнелюк, В.Е.Матюшков, В.К.Самохвалов, В.М.Стецик, В.И.Чехлиб 

 

 

«Использование лазерного генератора изображений ЭМ-5109 в опытном производстве»

 

II-ая международная научно-практическая конференция «Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»

Сборник тезисов докладов 20-21 октября 2005 г ., г.Минск.

А.В.Зверев, А.Б.Канарский, А.В.Костеневич, Т.М.Протазанова, Л.Л.Ященко 

 

 

«Новые направления в изготовлении растровых оптических элементов»

 

II-ая международная научно-практическая конференция «Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»

Сборник тезисов докладов 20-21 октября 2005 г ., г.Минск.

Г.В.Камлюк, А.Г. Сидорок

 

 

«Фотошаблоные генераторы изображений»

 

«Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»

Сборник тезисов докладов, представленных к научно-практической конференции, 12-13 октября 2004 г ., г.Минск

А.Б. Канарский

 

 

«Современный уровень и перспективы развития многоканальных лазерных генераторов изображений концерна «Планар», предназначенных для производства СБИС»

 

«Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»

Сборник тезисов докладов, представленных к научно-практической конференции, 12-13 октября 2004 г ., г.Минск

Л.В.Пушкин 

 

 

Перспективная модульная платформа автоматического контроля топологии шаблонов методом сравнения с проектными данными

 

«Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»

Сборник тезисов докладов, представленных к научно-практической конференции, 12-13 октября 2004 г ., г.Минск

С.М.Аваков

 

 

Методы детектирования и классификации макродефектов поверхности полупроводниковых пластин с топологией и их реализация в оборудовании для автоматического контроля»

 

«Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»

Сборник тезисов докладов, представленных к научно-практической конференции, 12-13 октября 2004 г ., г.Минск

С.М.Аваков

 

 

Фотолитографическое и контрольное оборудование в технологии изготовления МЭМС и МОЭМС»

 

«Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»

Сборник тезисов докладов, представленных к научно-практической конференции, 12-13 октября 2004 г ., г.Минск

Я.И.Точицкий 

 

 

A prospective modular platform of the mask pattern automatic inspection using the die-to-database method (Proceedings Paper)

 

Proceedings Vol. 5853

Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII, Masanori Komuro, Editors, pp.965-976

Date: 28 June 2005

Syarhei Avakaw, Aliaksandr Korneliuk, Alena Tsitko 

 

 

 

High productivity object-oriented defect detection algorithms for the new modular die-to-database reticle inspection platform (Proceedings Paper)

 

Proceedings Vol. 5835

21st European Mask and Lithography Conference, Uwe F. W. Behringer, Editors, pp.290-299

 Date: 16 June 2005

Syarhei Avakaw 

 

 

 

A complete set of the special process equipment for the defect-free production of reticles (Proceedings Paper)

 

 

Proceedings Vol. 6533

23rd European Mask and Lithography Conference, Uwe F. W. Behringer, Editors, 65331B

Date: 3 May 2007

Syarhei Avakaw; Valerian Iouditski; Leanid Pushkin; Alena Tsitko

 

 

 

 

A technique to determine a capability to detect adjacent defects during an automatic inspection of reticle patterns (Proceedings Paper)

 

Proceedings Vol. 6283

Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII, Morihisa Hoga, Editors, 628328

Date: 20 May 2006

Syarhei Avakaw; Aliaksandr Korneliuk; Alena Tsitko 

 

 

 

A technique to determine a capability to detect adjacent defects during the die-to-database inspection of reticle patterns (Proceedings Paper)

Proceedings Vol. 6281

22nd European Mask and Lithography Conference, Uwe F. W. Behringer, Editors, 62810W

Date: 21 June 2006

Syarhei Avakaw; Aliaksandr Korneliuk; Alena Tsitko 

 

 

 

Method to determine a detection capability of the die-to-database mask inspection system in regard to pinhole and pindot defects (Proceedings Paper)

 

 

Proceedings Vol. 5148

19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Uwe F. W. Behringer, Editors, pp.119-127

Date: 28 May 2003

Syarhey M. Avakaw 

 

 

 

Semi-transparent isolated defect detection by die-to-database mask inspection using virtual scanning algorithms for sub-pixel resolution (Proceedings Paper)

 

Proceedings Vol. 5504

20th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Uwe F. W. Behringer, Editors, pp.26-35

Date: 2 June 2004

Syarhey M. Avakaw 

 

 

 

 

KBTEM-OMO year og science