«КБТЭМ-ОМО»
ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО
 
Список публикаций, научных трудов сотрудников ОАО "КБТЭМ ОМО"

 

Название Изд-во, журн. (название, №, год) Фамилии авторов, соавторов Аннотация
Автоматизированный диагностический комплекс для оценки помехоустойчивости автомобильной
электроники по требованиям правил ЕЭК ООН № 10
Сб. докл. VII всероссийской научно-технич. конф. «Электромагнитная совместимость», Москва, 17-18 мая 2018г, С.150-155 В.Е.Матюшков А.А.Вискушенко В.Ф.Григорьев А.Г.Конопелько
Измеритель параметров помех в цепях электропитания Сб. докл. VII всероссийской научно-технич. конф. «Электромагнитная совместимость», Москва, 17-18 мая 2018г, С.146-149 В.Е.Матюшков А.А.Вискушенко В.Ф.Григорьев А.Д.Казаков
The Impact of ESD on Microcontrollers Minsk, Kolorgrad, 2018, 184 p. G.A.Piskun V.F.Alexeev S.M.Avakov V.E.Matyushkov D.S.Titko
Безмасковая литография 3-я Международная научная конференция «Электронная компонентная база и электронные модули»: сб. трудов международного форума «Микроэлектроника-2017», Алушта, 2-7 октября 2017 г. – Москва: Техносфера, 2017. – С. 175-179 В.И.Плебанович С.М.Аваков
Инновационные решения для достижения нового качества производства Радиотехника, электроника и связь: сборник докладов IV Международной научно-технической конференции,
Омск, 15–16 ноября 2017 года. – Омск: АО «ОНИИП», 2017. – С. 43-50
С.М.Аваков В.И.Плебанович
Методика сегментации изображений слоев СБИС IX Международная научно-техническая конференция: Информационные технологии в промышленности,
логистике и социальной сфере; 23-24 мая 2017г., Минск, С. 21-22
В.Г.Шоломицкий С.М.Аваков А.И.Дедков А.А.Дудкин А.В.Инютин Д.С.Титко
Комплект оборудования ОАО «КБТЭМ-ОМО» для проекционной субмикронной литографии Журнал «Электроника» №4 (00164) 2017 В.Плебанович С.Воронин
Введение в дизайн фотошаблонов для изготовления микро- и наносистем. Synopsys CATS, Mentor Graphics, Cadence MaskCompose под ред. В.А.Беспалова.—М.: Лаборатория знаний, 2016.—348с.: ил. С.М.Аваков [и др.]
Выбор комплекта оборудования для производства фотошаблонов в зависимости от их сложности 2-я научная конференция «Интегральные схемы и микроэлектронные модули»: Республика Крым, г.Алушта, 2016. С.174-179 С.М.Аваков В.И.Плебанович
Технологические комплексы интегрированных процессов производства изделий электроники Минск «Беларуская Навука», 2016, 251 с. А.П.Достанко С.М.Аваков О.А.Агеев М.П.Батура и др. Рассмотрены и обобщены результаты исследований и разработок в области создания и функционирования современных технологических комплексов интегрированных процессов производства изделий электроники, начиная от очистки поверхности подложек ультразвуком, СВЧ-плазмохимической обработки, магнетронного электронно-лучевого и импульсного лазерного формирования структур и состава слоев, высокочастотного локального нагрева, диффузионной сварки, а также интегрированного контроля микро- и наноструктур
Оптико-механическое оборудование для бездефектного изготовления фотошаблонов Электроника НТБ.- 2016. - №3, С.127-133 С.Аваков Е.Дрогун С.Карпович Д.Титко В.Шоломицкий В.Овчинников
Автоматический контроль микродефектности на полупроводниковых пластинах Журнал «Электроника» №5 (00145) 2015 В.Плебанович Описана предлагаемая КБТЭМ-ОМО (Минск) установка ЭМ-6429 для автоматического контроля микродефектов на пластинах с микроразмерной топологией, позволяющая решать многие проблемы, возникающие при изготовлении микросхем субмикронных размеров
Автофокусировка в установках автоматизированного контроля топологического рисунка фотошаблонов и полупроводниковых пластин Производство электроники – 2015. - №5, с. 125 – 128 С.М.Аваков А.В.Безлюдов Н.И.Гайков В.Л.Ланин В.П.Огер Д.С.Титко Г.А.Трапашко Для повышения точности автоматизированного контроля дефектов топологического рисунка фотошаблонов и полупроводниковых пластин предложена система автофокусировки, обеспечивающая удержание поверхности объекта в зоне резкости объектива при последовательном сканировании топологии
Безмасковая литография – требование сегодняшнего дня Журнал «Электроника» №7 (00147) 2015 В.Плебанович При малых объёмах выпуска стоимость комплекта фотошаблонов может быть в несколько раз дороже производства кристаллов. Полностью исключить процесс изготовления фотошаблонов позволяет только безмасковая литография
Двухсторонняя литография – решение проблем отвода тепла и разводки межсоединений в ИМС Журнал «Электроника» №4 (00144) 2015 В.Плебанович По мере повышения степени интеграции ИМС возникают две проблемы. Первая – увеличивается площадь межсоединений. Вторая проблема – с увеличением количества элементов затрудняется отвод тепла от активных областей схемы. Решение проблемы – двухсторонняя литография
Создание ЭКБ. Инновационные решения или импортозамещение? Журнал «Электроника» №1 (00141) 2015 В.Плебанович Представлен один из способов решения проблемы импортозамещения, направленный на внедрение инновационных технологий создания электронных компонентов
Сетевые контроллеры для управления технологическим оборудованием #3 (57), 2015 CONTROL ENGINEERING РОССИЯ А.Безлюдов Н.Гайков В.Ланин В.Огер Г.Трапашко Для управления шаговыми двигателями в технологическом оборудовании для производства изделий микроэлектроники разработана линейка сетевых контроллеров, которая отличается компактностью, помехозащищенностью, низким энергопотреблением и гибкостью внесения изменений в программное обеспечение нижнего уровня
Инновационные технологии проектирования электронных систем: учеб. пособ. для магистрантов высших учебных заведений специальности 1-39 81 01 Компьютерные технологии проектирования электронных систем Минск: БГУИР, 2015. − 134 с.: ил. В.Ф.Алексеев В.Е.Матюшков
Лазерные микро- и нанотехнологии в электронном машиностроении Материалы международной научной школы «Лазерные микро- и нанотехнологии», Санкт-Петербург, 1-3 июля 2015г. Университет ИТМО В.Е.Матюшков

 

 

           БОЛЕЕ РАННИЕ ПУБЛИКАЦИИ             Наверх