|
Название |
Изд-во, журн. (название, №, год) |
Фамилии авторов, соавторов |
Аннотация |
| Статья "Контроль микроразмеров в производстве ИС. Задачи и особенности" |
"Электроника НТБ", № 3, 2011 |
Г.А.Трапашко
|
|
|
"Оптические технологии микро- и наноэлектроники
|
Учебно-методическое пособие, 2010 г. |
Я.И.Точицкий
|
|
|
Статья "Лазерное оборудование для изготовления фотошаблонов" |
"Электроника: Наука, Технология, Бизнес", № 3 2010 г. |
С.М.Аваков, В.Русецкий, Л.Пушкин, Г.Трапашко, В. Юдицкий. |
|
|
Статья "Лазерная литография. Коррекция формы субмикронных элементов" |
"Электроника: Наука, Технология, Бизнес", № 8 2009 г. |
С.М.Аваков, В.Беспалов, В.Овчинников, Л.Пушкин, Е.А.Титко |
|
|
Тезисы доклада "новое специальное, технологическое, контрольно-измерительное и сборочное оборудование для производства изделий микроэлектроники" |
Сборник тезисов докладов VIII отраслевой научно-технической конференции "Радиоэлектронные технолонии: состояние и перспективы развития" (РФ, г.Воронеж, 17-19.09.2009) |
С.М.Аваков, Г.Ф.Ковальчук |
|
|
Статья "Оборудование ГНПО "Планар" - регионам России" |
"Электроника: Наука, Технология, Бизнес", № 3 2009 г. |
С.М.Аваков, Г.Ф.Ковальчук, С.А.Русецкий, Е.А.Титко |
|
|
Статья "Современные методы упаковки интегральных схем. Фотолитография и оборудование. Часть 2". |
"Электроника: Наука, Технология, Бизнес", № 6,
2008 г
. |
А.С.Агейченко |
|
|
Статья "Современные методы упаковки интегральных схем. Фотолитография и оборудование. Часть 1". |
"Электроника: Наука, Технология, Бизнес", № 4,
2008 г
. |
А.С.Агейченко |
|
|
Доклад «Новые системы оборудования ГНПО «Планар»(Беларусь)- регионам России ( состояние и перспективы развития специального технологического и контрольно-измерительного оборудования для формирования топологических структур и сборки полупроводниковых приборов)». |
Сборник докладов конференции «Инновационные технологии радиоэлектронного комплекса – регионам России», г.Санкт-Петербург, 24-26 сентября 2008г. |
С.М. Аваков, Г.Ф.Ковальчук, С.А. Русецкий. |
|
|
Статья "Методы устранения дефектов топологии интегральных микросхем на фотошаблонах"
|
"Известия высших учебных заведений. Электроника", № 6,
2008 г
. С.20-29
|
С.М.Аваков , В.А.Беспалов , В.А.Овчинников , Д.В.Базанов
|
Проанализированы методы устранения дефектов топологии интегральных микросхем на фотошаблонах. Выявлены наиболее эффективные методы устранения прозрачных и непрозрачных дефектов при производстве фотошаблонов под уровень ИС с нормами до 90 нм. |
|
Статья "Комплексы оптико-механического оборудования для бездефектного изготовления фотошаблонов уровня 0,35мкм и 90 нм" |
«Фотоника»
( приложение к журналу «Электроника НТБ», изд. ЗАО «Техносфера»),
2007 г
|
С.М. Аваков, В.А. Овчинников, Е.А. Титко, Г.А. Трапашко. |
|
|
Статья "Операции контроля топологии в технологическом процессе изготовления фотошаблонов" |
"Электроника инфо", БГУ, г. Минск,2007 г. |
С.М. Аваков, С.Е. Карпович, В.А. Овчинников, Е.А.Титко. |
|
|
Статья "Методы получения субпиксельного разрешения при автоматическом контроле оригиналов топологии интегральных схем" |
«Вестник БНТУ»,2007 г. |
С.М. Аваков |
|
|
Доклад "Комплекс спецтехнологического оборудования для бездефектного изготовления фотошаблонов"
|
Тезисы докл. в "Сборнике трудов 23-ей Европейской конференции "Шаблоны и фотолитография", EMLC -2007, 22-25 января
2007 г
., г. Гренобль, Франция. |
С.М. Аваков , В.А. Юдицкий, Л.В. Пушкин, Е.А. Титко
|
|
|
Статья "Фотолитографическое и контрольное оборудование в МСТ-технологии МЭМС- и МОЭМС-устройств".
|
Нано- и микросистемная техника № 1, 2007 с. 61-65
|
к.т.н. Я.И.Точицкий
|
Рассмотрены технологические процессы фотолитографии, применяемые при изготовлении МЭМС- и МОЭМС-устройств. Предложены пять вариантов технологических маршрутов и комплекты оптико-механического оборудования для выполнения основных и контрольных фотолитографических операций для изготовления МСТ-приборов. |
|
Методика определения способности обнаружения изолированных дефектов при автоматическом контроле оригиналов топологии на фотошаблонах методом сравнения с проектными данными |
Доклады БГУИР, июль-сентябрь 2007 г., № 3 (19) |
С.М.Аваков |
|
|
Доклад "Оптико-механическое технологическое и контрольно-измерительное оборудование в производстве телевизионных фотоэлектрических приборов"
|
сборнике тезисов докладов ХIII Юбилейной научно-технической конференции «Современные проблемы телевизионных фотоэлектрических приборов», посвященной 50-летию ОАО «ЦНИИ» Электрон», г. Санкт-Петербург, 9-20 апреля 2006 года. |
С. М.Аваков, Я. И.Точицкий
|
|
|
Статья «Применение оборудования для автоматического контроля планарных структур в производстве интегральных схем на шаблонах» |
«Вестник БНТУ»,
2007 г
. |
С.М.Аваков |
|
|
Доклад « Методика определения способности обнаружения прилегающих дефектов при автоматическом контроле топологии фотошаблонов » |
Публикация в сборнике трудов 13-го Международного симпозиума «Photomask Japan» (Yokohana, Kanagawa Japan),
18-20 апреля 2006 года |
С.М.Аваков, А.И.Корнелюк, Е.А.Титко. |
|
|
Доклад « Методика определения способности обнаружения прилегающих дефектов при автоматическом контроле топологии фотошаблонов методом сравнения с проектными данными » |
Публикация в сборнике трудов 22-ой Европейской конференции «Шаблоны и фотолитография», ЕМLC 2006, Дрезден, Германия, 23-26 января 2006 года. |
С.М.Аваков, А.И.Корнелюк, Е.А.Титко.
|
|
|
Статья «Точность процессов фотолитографии и фотолитографического оборудования»
|
«Нано- и микросистемная техника», № 12, 2006, с. 47-52
|
Я.И.Точицкий, А.А.Васильев, В.М.Есьман
|
Основные параметры микро- и наноэлектроники зависят от геометрической точности процессов формирования структур, которые определяются точностью процессов и оборудования для фотолитографии. Из двух параметров — точности размера элемента (CD) и погрешности совмещения слоев (overlay), определяющим является погрешность совмещения. Способы уменьшения этой погрешности в фотолитографии и в фотолитографическом оборудовании рассмотрены в настоящей статье. |
|
Доклад «Современное оборудование для производства изделий электронной техники» |
Сборник трудов научно-практ.развития радиоэлектронного комплекса, проблемы и задачи», г.Санкт-Петербург, 26-30 сентября 2005 |
С.М.Аваков , С.Б.Школык
|
|
|
Доклад «Широкоформатные степперы УП «КБТЭМ-ОМО» концерна Планар»
|
II-ая международная науч.-практич. конференция «Прецизионное оборудование в технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»
Сборник тезисов докладов, Минск 2005 |
А.С. Агейченко
|
|
|
Доклад «Фотолитографическое оборудование для новой технологии сборки микросхем»
|
Тезисы докл. науч.-практич. конференции «Прецизионное оборудование в технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»
Сборник тезиов докладов I (II) международная научно-практическая конференция, Минск 2004 |
А.С.Агейченко
докт. техн. наук, профессор В.Е.Матюшков
|
|
|
Доклад « Состояние и перспективы развития оптико-механического оборудования концерна «Планар» |
II-ая международная научно-практическая конференция «Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»
Сборник тезисов докладов 20-21 октября
2005 г
., г.Минск. |
С.М.Аваков, В.П.Зуев |
|
|
«Точность процессов фотолитографии и фотолитографического оборудования» |
II-ая международная научно-практическая конференция «Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»
Сборник тезисов докладов 20-21 октября
2005 г
., г.Минск. |
Я.И.Точицкий, А.А. Васильев
|
|
|
«Основные аспекты лазерного ремонта шаблонов» |
II-ая международная научно-практическая конференция «Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»
Сборник тезисов докладов 20-21 октября
2005 г
., г.Минск. |
В.А.Юдицкий, А.И.Чеботарь, Д.И.Лакин, А.И.Дедков, В.Л.Широкий
|
|
|
«Комплект интерферометрический»
|
II-ая международная научно-практическая конференция «Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»
Сборник тезисов докладов 20-21 октября
2005 г
., г.Минск. |
В.М.Есьман, Е.И.Кока, И.И.Постоялко |
|
|
«Установка контроля отклонений от плоскости полупроводниковых пластин ЭМ-6319 с расширенными функциональными возможностями»
|
II-ая международная научно-практическая конференция «Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»
Сборник тезисов докладов 20-21 октября
2005 г
., г.Минск. |
А.И.Корнелюк, В.Е.Матюшков, В.К.Самохвалов, В.М.Стецик, В.И.Чехлиб |
|
|
«Использование лазерного генератора изображений ЭМ-5109 в опытном производстве»
|
II-ая международная научно-практическая конференция «Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»
Сборник тезисов докладов 20-21 октября
2005 г
., г.Минск. |
А.В.Зверев, А.Б.Канарский, А.В.Костеневич, Т.М.Протазанова, Л.Л.Ященко |
|
|
«Новые направления в изготовлении растровых оптических элементов»
|
II-ая международная научно-практическая конференция «Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»
Сборник тезисов докладов 20-21 октября
2005 г
., г.Минск. |
Г.В.Камлюк, А.Г. Сидорок
|
|
|
«Фотошаблоные генераторы изображений»
|
«Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»
Сборник тезисов докладов, представленных к научно-практической конференции, 12-13 октября
2004 г
., г.Минск |
А.Б. Канарский
|
|
|
«Современный уровень и перспективы развития многоканальных лазерных генераторов изображений концерна «Планар», предназначенных для производства СБИС»
|
«Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»
Сборник тезисов докладов, представленных к научно-практической конференции, 12-13 октября
2004 г
., г.Минск |
Л.В.Пушкин |
|
|
Перспективная модульная платформа автоматического контроля топологии шаблонов методом сравнения с проектными данными
|
«Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»
Сборник тезисов докладов, представленных к научно-практической конференции, 12-13 октября
2004 г
., г.Минск |
С.М.Аваков |
|
|
Методы детектирования и классификации макродефектов поверхности полупроводниковых пластин с топологией и их реализация в оборудовании для автоматического контроля»
|
«Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»
Сборник тезисов докладов, представленных к научно-практической конференции, 12-13 октября
2004 г
., г.Минск |
С.М.Аваков |
|
|
Фотолитографическое и контрольное оборудование в технологии изготовления МЭМС и МОЭМС»
|
«Прецизионное оборудование и технологии производства изделий микро- и радиоэлектроники»
Сборник тезисов докладов, представленных к научно-практической конференции, 12-13 октября
2004 г
., г.Минск |
Я.И.Точицкий |
|
|
A prospective modular platform of the mask pattern automatic inspection using the die-to-database method (Proceedings Paper)
|
Proceedings Vol. 5853
Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII, Masanori Komuro, Editors, pp.965-976
Date: 28 June 2005 |
Syarhei Avakaw, Aliaksandr Korneliuk, Alena Tsitko
|
|
|
High productivity object-oriented defect detection algorithms for the new modular die-to-database reticle inspection platform (Proceedings Paper)
|
Proceedings Vol. 5835
21st European Mask and Lithography Conference, Uwe F. W. Behringer, Editors, pp.290-299
Date: 16 June 2005 |
Syarhei Avakaw
|
|
|
A complete set of the special process equipment for the defect-free production of reticles (Proceedings Paper)
|
Proceedings Vol. 6533
23rd European Mask and Lithography Conference, Uwe F. W. Behringer, Editors, 65331B
Date: 3 May 2007 |
Syarhei Avakaw; Valerian Iouditski; Leanid Pushkin; Alena Tsitko
|
|
|
A technique to determine a capability to detect adjacent defects during an automatic inspection of reticle patterns (Proceedings Paper)
|
Proceedings Vol. 6283
Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII, Morihisa Hoga, Editors, 628328
Date: 20 May 2006 |
Syarhei Avakaw; Aliaksandr Korneliuk; Alena Tsitko
|
|
|
A technique to determine a capability to detect adjacent defects during the die-to-database inspection of reticle patterns (Proceedings Paper) |
Proceedings Vol. 6281
22nd European Mask and Lithography Conference, Uwe F. W. Behringer, Editors, 62810W
Date: 21 June 2006 |
Syarhei Avakaw; Aliaksandr Korneliuk; Alena Tsitko
|
|
|
Method to determine a detection capability of the die-to-database mask inspection system in regard to pinhole and pindot defects (Proceedings Paper)
|
Proceedings Vol. 5148
19th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Uwe F. W. Behringer, Editors, pp.119-127
Date: 28 May 2003 |
Syarhey M. Avakaw
|
|
|
Semi-transparent isolated defect detection by die-to-database mask inspection using virtual scanning algorithms for sub-pixel resolution (Proceedings Paper)
|
Proceedings Vol. 5504
20th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents, Uwe F. W. Behringer, Editors, pp.26-35
Date: 2 June 2004 |
Syarhey M. Avakaw
|
|
