| Название |
Изд-во, журн. (название, №, год) |
Фамилии авторов, соавторов |
Аннотация |
| Безмасковая литография в производстве изделий микроэлектроники |
Инновационные технологии и оборудование субмикронной электроники
под общ.ред.акад.
А.П. Достанко. - 2020,
с.5 - 24 |
С.М.Аваков В.И.Плебанович |
|
| Генераторы изображений для безмасковой литографии |
Журнал «Электроника» №9 (00190) 2019 |
С.М.Аваков В.И.Плебанович А.Лапко |
|
| Автоматизация процессов испытания технических средств на помехозащищенность по цепям электропитания |
17-я Международная выставка компонентов и модулей силовой электроники, г. Москва,22 октября 2019 |
А.А.Вискушенко |
|
| Отраслевая лаборатория испытаний и нанодиагностики спецтехнологического оборудования (ОЛИН СТО) |
Журнал «Электроника» №5 (00186) 2019 |
С.М.Аваков В.Е.Матюшков А.А.Вискушенко А.Д.Казаков |
|
| Автоматизированный диагностический комплекс для оценки помехоустойчивости автомобильной электроники по требованиям правил ЕЭК ООН № 10 |
Сб. докл. VII всероссийской научно-технич. конф. «Электромагнитная совместимость», Москва, 17-18 мая 2018г, С.150-155 |
В.Е.Матюшков А.А.Вискушенко В.Ф.Григорьев А.Г.Конопелько |
|
| Измеритель параметров помех в цепях электропитания |
Сб. докл. VII всероссийской научно-технич. конф. «Электромагнитная совместимость», Москва, 17-18 мая 2018г, С.146-149 |
В.Е.Матюшков А.А.Вискушенко В.Ф.Григорьев А.Д.Казаков |
|
| The Impact of ESD on Microcontrollers |
Minsk, Kolorgrad, 2018, 184 p. |
G.A.Piskun V.F.Alexeev S.M.Avakov V.E.Matyushkov D.S.Titko |
|
| Безмасковая литография |
3-я Международная научная конференция «Электронная компонентная база и электронные модули»: сб. трудов международного форума «Микроэлектроника-2017», Алушта, 2-7 октября 2017 г. – Москва: Техносфера, 2017. – С. 175-179 |
В.И.Плебанович С.М.Аваков |
|
| Инновационные решения для достижения нового качества производства |
Радиотехника, электроника и связь: сборник докладов IV Международной научно-технической конференции, Омск, 15–16 ноября 2017 года. – Омск: АО «ОНИИП», 2017. – С. 43-50 |
С.М.Аваков В.И.Плебанович |
|
| Методика сегментации изображений слоев СБИС |
IX Международная научно-техническая конференция: Информационные технологии в промышленности, логистике и социальной сфере; 23-24 мая 2017г., Минск, С. 21-22 |
В.Г.Шоломицкий С.М.Аваков А.И.Дедков А.А.Дудкин А.В.Инютин Д.С.Титко |
|
| Комплект оборудования ОАО «КБТЭМ-ОМО» для проекционной субмикронной литографии |
Журнал «Электроника» №4 (00164) 2017 |
В.Плебанович С.Воронин |
|
| Введение в дизайн фотошаблонов для изготовления микро- и наносистем. Synopsys CATS, Mentor Graphics, Cadence MaskCompose |
под ред. В.А.Беспалова.—М.: Лаборатория знаний, 2016.—348с.: ил. |
С.М.Аваков [и др.] |
|
| Выбор комплекта оборудования для производства фотошаблонов в зависимости от их сложности |
2-я научная конференция «Интегральные схемы и микроэлектронные модули»: Республика Крым, г.Алушта, 2016. С.174-179 |
С.М.Аваков В.И.Плебанович |
|
| Технологические комплексы интегрированных процессов производства изделий электроники |
Минск «Беларуская Навука», 2016, 251 с. |
А.П.Достанко С.М.Аваков О.А.Агеев М.П.Батура и др. |
Рассмотрены и обобщены результаты исследований и разработок в области создания и функционирования современных технологических комплексов интегрированных процессов производства изделий электроники, начиная от очистки поверхности подложек ультразвуком, СВЧ-плазмохимической обработки, магнетронного электронно-лучевого и импульсного лазерного формирования структур и состава слоев, высокочастотного локального нагрева, диффузионной сварки, а также интегрированного контроля микро- и наноструктур |
| Оптико-механическое оборудование для бездефектного изготовления фотошаблонов |
Электроника НТБ.- 2016. - №3, С.127-133 |
С.Аваков Е.Дрогун С.Карпович Д.Титко В.Шоломицкий В.Овчинников |
|
| Автоматический контроль микродефектности на полупроводниковых пластинах |
Журнал «Электроника» №5 (00145) 2015 |
В.Плебанович |
Описана предлагаемая КБТЭМ-ОМО (Минск) установка ЭМ-6429 для автоматического контроля микродефектов на пластинах с микроразмерной топологией, позволяющая решать многие проблемы, возникающие при изготовлении микросхем субмикронных размеров |
| Автофокусировка в установках автоматизированного контроля топологического рисунка фотошаблонов и полупроводниковых пластин |
Производство электроники – 2015. - №5, с. 125 – 128 |
С.М.Аваков А.В.Безлюдов Н.И.Гайков В.Л.Ланин В.П.Огер Д.С.Титко Г.А.Трапашко |
Для повышения точности автоматизированного контроля дефектов топологического рисунка фотошаблонов и полупроводниковых пластин предложена система автофокусировки, обеспечивающая удержание поверхности объекта в зоне резкости объектива при последовательном сканировании топологии |
| Безмасковая литография – требование сегодняшнего дня |
Журнал «Электроника» №7 (00147) 2015 |
В.Плебанович |
При малых объёмах выпуска стоимость комплекта фотошаблонов может быть в несколько раз дороже производства кристаллов. Полностью исключить процесс изготовления фотошаблонов позволяет только безмасковая литография |
| Двухсторонняя литография – решение проблем отвода тепла и разводки межсоединений в ИМС |
Журнал «Электроника» №4 (00144) 2015 |
В.Плебанович |
По мере повышения степени интеграции ИМС возникают две проблемы. Первая – увеличивается площадь межсоединений. Вторая проблема – с увеличением количества элементов затрудняется отвод тепла от активных областей схемы. Решение проблемы – двухсторонняя литография |
| Создание ЭКБ. Инновационные решения или импортозамещение? |
Журнал «Электроника» №1 (00141) 2015 |
В.Плебанович |
Представлен один из способов решения проблемы импортозамещения, направленный на внедрение инновационных технологий создания электронных компонентов |
| Сетевые контроллеры для управления технологическим оборудованием |
#3 (57), 2015 CONTROL ENGINEERING РОССИЯ |
А.Безлюдов Н.Гайков В.Ланин В.Огер Г.Трапашко |
Для управления шаговыми двигателями в технологическом оборудовании для производства изделий микроэлектроники разработана линейка сетевых контроллеров, которая отличается компактностью, помехозащищенностью, низким энергопотреблением и гибкостью внесения изменений в программное обеспечение нижнего уровня |
| Инновационные технологии проектирования электронных систем: учеб. пособ. для магистрантов высших учебных заведений специальности 1-39 81 01 Компьютерные технологии проектирования электронных систем |
Минск: БГУИР, 2015. − 134 с.: ил. |
В.Ф.Алексеев В.Е.Матюшков |
|
| Лазерные микро- и нанотехнологии в электронном машиностроении |
Материалы международной научной школы «Лазерные микро- и нанотехнологии», Санкт-Петербург, 1-3 июля 2015г. Университет ИТМО |
В.Е.Матюшков |
|
