|
Изделия, изготовленные методом фотолитографии: прецизионные фотошаблоны, сетки отсчётные и визирные шкалы, тест-объекты, миры, радиальные лимбы и диски кодовые, анализирующие маски и диафрагмы, стандартные стеклянные штриховые меры длины и растровые линейные шкалы.
Фотошаблоны для изготовления ИС, МЭМС и ГИС, испытаний и аттестации погрешности оптико-механического и контрольно-измерительного оборудования
|
Материал подложки |
оптическое стекло, кварц | |
Размер подложки |
до 305x305 мм, толщина от 1,0 до 6,4 мм | |
Топология |
по требованию заказчика | |
Погрешность расположения элементов топологии на поле
|
280х280 мм - ±1мкм
140х140 мм - ±0,5мкм | |
Минимальный элемент на поле |
100х100мм – 1мкм
200х200мм – 2,0мкм | |
Погрешность аттестации |
на поле 140х140мм – 0,16мкм |
Сетки отсчётные и визирные шкалы, тест-объекты для оптических приборов и микроскопов
|
Материал подложки |
оптическое стекло, кварц, ситалловое стекло | |
Покрытие |
хромированное или с антиотражающее для требуемой длины волны | |
Топология |
по требованию заказчика | |
Минимальный элемент |
1,0 мкм | |
Погрешность аттестации |
0,16мкм |
Стандартные линейные, радиальные и специальные миры
Предназначены для определения и проверки разрешающей способности, глубины резкости оптических систем технологического оборудования, объективов оптических приборов, фотографических объективов и материалов, фотографических и фотолитографических процесов
|
Изображение |
светлое или тёмное поле | |
Топология |
по требованию заказчика | |
Минимальный элемент |
1,0 мкм | |
Рабочее поле |
до 140х140мм |
Радиальные лимбы и диски кодовые (растровые), анализирующие маски и диафрагмы
Применение: датчики угла поворота станков с ЧПУ, технологического и контрольно-измерительного оборудования.
|
Материал подложки |
оптическое стекло | |
Покрытие |
хромированние или с антиотражающее покрытие требуемой длины волны | |
Диаметр оптических деталей |
6-280мм | |
Количество штрихов (на диаметре
100 мм
) |
6000 |
Стандартные стеклянные штриховые меры длины и растровые линейные шкалы
Применение: для аттестации оптико-механического, контрольно-измерительного, специального технологического и других типов оборудования и приборов, в датчиках линейных перемещений станков с ЧПУ и другом спецтехнологическом оборудовании
|
Материал подложки |
оптическое стекло, кварц, ситалл | |
Покрытие |
хромированние или с антиотражающее покрытие требуемой длины волны | |
Длина шкал |
до 300мм – однокоординатных или
поле 260х260мм двукоординатных | |
Минимальная ширина штриха |
2мкм | |
Минимальная ширина штриха при длине до
100 мм
|
1мкм |
|
Планар (КБТЭМ)