«КБТЭМ-ОМО»
ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО
 
ЭМ-6479 Установка автоматического контроля привносимых дефектов

Установка ЭМ-6479 предназначена для контроля загрязнений поверхности полупроводниковых пластин без топологии.

Установка позволяет выполнять как операции финишного инспекционного контроля на предприятиях-изготовителях полупроводниковых подложек, так и аттестацию технологических операций на привносимую дефектность в кристальном производстве.

Технические характеристики установки 

Размер минимального обнаруживаемого дефекта, нм 150
Вероятность обнаружения дефекта с минимальными размерами 0.95
Производительность, пластин/ч 80
Диаметр контролируемых пластин, мм 100, 150, 200
Потребляемая мощность, не более, Вт 700


Более подробная информация доступна только для
зарегистрированных пользователей

 

Оборудование для формирования и контроля топологических структур на полупроводниковых пластинах

Оборудование для непосредственного генерирования изображений на полупроводниковые пластины
Оборудование для проекционного переноса изображений на полупроводниковые пластины
Оборудование контактного переноса изображений на подложки и для организации двусторонней литографии
Широкоформатные степперы
Оборудование для контроля полупроводниковых пластин

KBTEM-OMO year og science