Планар (КБТЭМ)
 
ЭМ-5186 Установка формирования двухсторонних знаков совмещения

ЭМ-5186 Установка формирования двухсторонних знаков совмещения

Установка ЭМ-5186 предназначена для проекционного переноса изображения знаков совмещения на нижнюю сторону пластины (подложки), совмещенных со знаками совмещения, сформированными предварительно на её верхней стороне.

Установка позволяет изготавливать пластины с двухсторонней литографией на традиционном фотолитографическом оборудовании. Установка позволяет формировать знаки на прозрачных подложках.

Применяется для изготовления полупроводниковых приборов, гибридных, оптических, оптоэлектронных приборов, МЭМС и МОЭМС.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
 
Размер подложек*, ммØ76; 100; 150; 200; 60х48
Толщина подложки, мм0.3 ... 10.0
Случайная составляющая погрешности совмещения знаков на двух сторонах подложки, мкм0.3
Напряжение/частота сети электропитания, В/Гц230/50 ... 60
Потребляемая мощность, не более, Вт300
Масса установки, не более, кг250
*Уточняется при заказе