«КБТЭМ-ОМО»
ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО
 
ЭМ-5026Б Установка двухстороннего совмещения и экспонирования

 

ЭМ-5026Б Установка двухстороннего совмещения и экспонирования

Установка ЭМ-5026Б выполняет контактным (в зазоре) способом экспонирование верхней стороны полупроводниковой пластины или подложки, совмещая изображение на фотошаблоне с изображением на нижней (обратной) стороне пластины или подложки.

Установка ЭМ-5026Б имеет автоматические системы:
- высокоточной предварительной ориентации;
- загрузки пластин на рабочий столик и выгрузки с него;
- компенсации клина и разнотолщинности пластин без контакта с фотошаблоном;
- выхода на заданный оператором зазор совмещения;
- экспонирования фоторезистивного слоя на пластинах;
- режим энергосбережения.

Загрузка/выгрузка пластин - полуавтоматическая.

 

Техничесике характеристики установки

Диапазоны рабочих длин волн*, нм 225-260; 280-335;
350-450
Фотолитографическое разрешение, мкм 0.4 ... 1.0
Неравномерность освещенности рабочего поля диаметром 110 мм, % ±2.5
Случайная составляющая погрешности совмещения:  
- при совмещении по лицевой стороне, мкм ±0.2
- при совмещении по знакам на обратной стороне пластины, мкм ±1.0
Диаметр обрабатываемых пластин*, мм 40; 50; 60; 76; 100
Размер фотошаблонов*, мм 76х76; 102х102;
127х127
Чувствительность привода манипулятора совмещения:
- по X, Y, мкм
- по углу, секунд

0.01
0.1
Потребляемая мощность, не более, Вт 900


*Уточняется при заказе

Более подробная информация доступна только для зарегистрированных пользователей

 

 

KBTEM-OMO year og science