|
ЭМ-5026B Установка совмещения и экспонирования |
|
Установка ЭМ-5026B выполняет контактным (в зазоре)
способом экспонирование верхней стороны полупроводниковой пластины или
подложки, совмещая изображение на фотошаблоне с изображением на нижней
(обратной) стороне пластины или подложки.
| УСТАНОВКА ЭМ-5026B ИМЕЕТ АВТОМАТИЧЕСКИЕ СИСТЕМЫ: |
|
- высокоточной предварительной ориентации;
- загрузки пластин на рабочий столик и выгрузки с него;
- компенсации клина и разнотолщинности пластин без контакта с фотошаблоном;
- выхода на заданный оператором зазор совмещения;
- экспонирования фоторезистивного слоя на пластинах;
- режим энергосбережения.
Загрузка/выгрузка пластин - полуавтоматическая.
| ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
|
| Диапазоны рабочих длин волн*, нм | 225-260; 280-335;
350-450 | | Фотолитографическое разрешение, мкм | 0.4 ... 1.0 | | Неравномерность освещенности рабочего поля диаметром 110 мм, % | ±2.5 | | Случайная составляющая погрешности совмещения: | | | - при совмещении по лицевой стороне, мкм | ±0.2 | | - при совмещении по знакам на обратной стороне пластины, мкм | ±1 | | Диаметр обрабатываемых пластин*, мм | 40; 50; 60; 76; 100 | | Размер фотошаблонов*, мм | 76х76; 102х102;
127х127 | Чувствительность привода манипулятора совмещения:
- по X, Y, мкм
- по углу, секунд |
0.01
0.1 | Перемещение микроскопа приводами:
- по X, мм
- по Y, мм |
±40
±5 | | Потребляемая мощность, не более, Вт | 800 |
* Уточняется при заказе
Установка может использоваться для оценки точности совмещения нанесенных на двух сторонах непрозрачной пластины (подложки) знаков совмещения (топологий).
Одновременный вывод изображения с микроскопа на экран монитора и в окуляры. |
|
|
Планар (КБТЭМ)