«КБТЭМ-ОМО»
ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО
 
ЭМ-5026М1 Установка совмещения и экспонирования

 

ЭМ-5026М1 Установка совмещения и экспонирования

Установка ЭМ-5026М1 предназначена для совмещения изображения фотошаблона и пластины (подложки) и переноса изображения с фотошаблона на пластину контактным (в зазоре) экспонированием фоторезистивного слоя пластины (подложки).

Установка ЭМ-5026М1 имеет автоматические системы:
- компенсации клина и разнотолщинности пластин без контакта с фотошаблоном;
- выхода на заданный оператором зазор совмещения
- экспонирования фоторезиста на пластине;
- перехода в режим энергосбережения.

Загрузка-выгрузка пластин и подложек на рабочий столик осуществляется оператором вручную.

 

Технические характеристики установки 

Диапазоны рабочих длин волн*, нм 225-260; 280-335;
350-450
Фотолитографическое разрешение, мкм 0.4 ... 0.6
Неравномерность освещенности рабочего поля диаметром 76 мм, % ±2
Случайная составляющая погрешности совмещения, мкм ±0.1
Диаметр обрабатываемых пластин*, мм 76 (16, 20, 25, 30, 40, 50, 60); 60x48; 48x30
Размер фотошаблонов*, мм 76х76, 102х102
Чувствительность привода манипулятора совмещения
- по X, Y, мкм
- по углу, секунд

0.01
0.1
Однопольный микроскоп с тремя объективами на револьверной головке.
Увеличение микроскопа с окулярами 10х

120x, 320x, 485x
Потребляемая мощность, не более, Вт 800


*Уточняется при заказе

Более подробная информация доступна только для зарегистрированных пользователей

 

 

KBTEM-OMO year og science