|
ЭМ-5026М1 Установка совмещения и экспонирования |
|
Установка ЭМ-5026М1 предназначена для совмещения
изображения фотошаблона и пластины (подложки) и переноса изображения с
фотошаблона на пластину контактным (в зазоре) экспонированием
фоторезистивного слоя пластины (подложки).
| УСТАНОВКА ЭМ-5026М1 ИМЕЕТ АВТОМАТИЧЕСКИЕ СИСТЕМЫ: |
|
- компенсации клина и разнотолщинности пластин без контакта с фотошаблоном;
- выхода на заданный оператором зазор совмещения
- экспонирования фоторезиста на пластине;
- перехода в режим энергосбережения.
Загрузка-выгрузка пластин и подложек на рабочий столик осуществляется оператором вручную.
| ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
|
| Диапазоны рабочих длин волн*, нм | 225-260; 280-335;
350-450 | | Фотолитографическое разрешение, мкм | 0.4 ... 0.6 | | Неравномерность освещенности рабочего поля диаметром 76 мм, % | ±2 | | Случайная составляющая погрешности совмещения, мкм | ±0.1 | | Диаметр обрабатываемых пластин*, мм | 76 (16, 20, 25, 30, 40, 50, 60); 60x48; 48x30 | | Размер фотошаблонов*, мм | 76х76, 102х102 | | Чувствительность привода манипулятора совмещения | | | - по X, Y, мкм | 0.01 | | - по углу, секунд | 0.1 | | Однопольный микроскоп с тремя объективами на револьверной головке.** | | Увеличение микроскопа с окулярами 10х | 120x, 320x, 485x | | Потребляемая мощность, не более, Вт | 800 | *Уточняется при заказе
**Одновременный вывод изображения с микроскопа на экран монитора |
|
|
Планар (КБТЭМ)