Планар (КБТЭМ)
 
ЭМ-5026АМ Установка совмещения и экспонирования

ЭМ-5026АМ Установка совмещения и экспонирования

Установка ЭМ-5026АМ предназначена для совмещения изображений фотошаблона и пластины (подложки) и переноса изображения с фотошаблона на пластину (подложку) контактным (в зазоре) экспонированием фоторезистивного слоя пластины.

УСТАНОВКА ЭМ-5026АМ ИМЕЕТ АВТОМАТИЧЕСКИЕ СИСТЕМЫ:

- подача пластины (подложки) из кассет;
- центрирования и ориентации по базовому срезу;
- предварительной точной ориентации и загрузки пластины на рабочий столик;
- компенсации клина и разнотолщинности пластин без контакта с фотошаблоном;
- выхода на заданный оператором зазор совмещения;
- экспонирования фоторезистивного слоя на пластинах;
- выгрузки в приемную кассету;
- режим энергосбережения.

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
 
Диапазоны рабочих длин волн*, нм225-260; 280-335; 350-450
Фотолитографическое разрешение, мкм0.4 ... 0.7
Неравномерность освещенности рабочего поля диаметром 110мм, %±2.5
Случайная составляющая погрешности совмещения, мкм±0.1
Диаметр обрабатываемых пластин*, мм50; 60; 76; 100; 60x48
Размер фотошаблонов*, мм102 х102, 127х127
Чувствительность привода манипулятора совмещения: 
- по X, Y, мкм0.01
- по углу, секунд0.1
Двупольный микроскоп с расщепленным полем и плавным изменением увеличения**
- с объективами ОМ 0.4/8 и окулярами 10х 150х ... 480х
- с объективами ОМ 0.2/14 и окулярами 10х 90х ... 250х
Потребляемая мощность, не более, Вт800
*Уточняется при заказе
**Одновременный вывод изображения с микроскопа на экран монитора