|
ЭМ-5084БM Автоматическая установка совмещения и экспонирования |
|
Установка предназначена для совмещения и помодульного экспонирования полупроводниковых пластин при производстве СБИС и других изделий электронной техники.
В основе работы установки лежит способ последовательного переноса (мультипликации) уменьшенного изображения шаблона на предварительно сфокусированную и совмещенную с плоскостью изображения шаблона, полупроводниковую пластину, соориентированную по специальным знакам совмещения, нанесенным на ее рабочую поверхность.
| ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
|
| Рабочая длина волны, нм | 404 | | Фотолитографическое разрешение, мкм | 0.8 | | Масштаб проекционного уменьшения | 1:5 | | Размер максимального рабочего поля модуля, мм | 16 х 16 | | Случайная составляющая погрешности совмещения, нм | ±100 | | Исполнения установки для работы с пластинами, мм | 150, 200 | | Размер фотошаблонов, мм | 127х127 | | Емкость библиотеки шаблонов, шт | 10 | | Потребляемая мощность, не более, кВт | 4 |
|
|
Планар (КБТЭМ)