«КБТЭМ-ОМО»
ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО
 
ЭМ-5084Б Автоматическая установка совмещения и экспонирования

 

Установка предназначена для совмещения и помодульного экспонирования полупроводниковых пластин при производстве СБИС и других изделий электронной техники.

В основе работы установки лежит способ последовательного переноса (мультипликации) уменьшенного изображения шаблона на предварительно сфокусированную и совмещенную с плоскостью изображения шаблона, полупроводниковую пластину, соориентированную по специальным знакам совмещения, нанесенным на ее рабочую поверхность.

 

 

Технические характеристики установки 

Рабочая длина волны, нм 404
Фотолитографическое разрешение, мкм 0.8
Масштаб проекционного уменьшения 1:5
Размер максимального рабочего поля модуля, мм 16 х16
Случайная составляющая погрешности совмещения, нм ±100
Диаметр обрабатываемых пластин (перенастраиваемый), мм 100, 150, 200
Размер фотошаблонов, мм 127х127
Емкость библиотеки шаблонов, шт 10
Потребляемая мощность, не более, кВт 4



Более подробная информация доступна только для зарегистрированных пользователей

 

 

KBTEM-OMO year og science