Планар (КБТЭМ)
 
ЭМ-5131 Установка лазерного устранения дефектов шаблонов

 

ЭМ-5131 Установка лазерного устранения дефектов шаблонов

Установка позволяет осуществлять ремонт шаблонов с различными типами маскирующих покрытий: хром, окись хрома, окись железа.

ОСНОВНЫЕ ОСОБЕННОСТИ:
  • залечивание непрозрачных дефектов участка покрытия;
  • залечивание прозрачных дефектов участка покрытия;
  • установка оснащена фемтосекундным лазером, что позволяет проводить обработку без повреждения материала подложки фотошаблона;
  • телевизионная система наблюдения за процессами ориентации, совмещения и наведения на дефект;
  • угловая ориентация фотошаблона и привязка координатной системы;
  • задание технологических параметров ретуши в автоматическом и пользовательском режимах.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
 
Минимальный диаметр устраняемых дефектов: 
- прозрачных, мкм1
- непрозрачных, мкм0.5
Максимальный размер рабочего поля, мм160х160
Разворот исправляемого участка, град±45
Точность наведения луча лазера на непрозрачный исправляемый участок, нм500
Дискретность задания размеров ремонтируемого непрозрачного участка, нм100
Потребляемая мощность, не более, кВт4

 

ФУНКЦИОНАЛЬНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
 
Увеличение объективов, крат 100x 75x 30x 7.5x
Рабочий отрезок объективов, мм 2,2 7,5 7,5 18
Минимальный шаг перемещения стола по XY, нм 50 50 50 50
Ошибка выхода на дефект по файлу, мкм ±5 ±5 ±5 N/A
Погрешность наведения на край, нм ±50 ±70 ±100 N/A
Непрозрачные дефекты: Да Да Да Нет
Минимальный размер прилегающего дефекта, нм 200 300 500 N/A
Минимальный размер изолированного дефекта, нм 200 300 500 N/A
Минимальный размер промежутка, нм 400 500 1000 N/A
Прозрачные дефекты:        
Устранение прозрачных дефектов N/A Да N/A N/A
Минимальный размер прилегающего дефекта, нм N/A 300* N/A N/A
Минимальный размер изолированного дефекта, нм N/A 300* N/A N/A
Минимальный размер промежутка, нм N/A 800* N/A N/A
* Свободная зона вокруг дефекта должна быть не менее 500 нм. Устранение прозрачных дефектов проводится при необходимости в два этапа: осаждение, испарение.