|
ЭМ-6929 Установка автоматического контроля топологии фотошаблонов |
|
|
|
Установка ЭМ-6929 является современной разработкой для технологий уровня 65-45 нм. Установка осуществляет автоматический контроль первичных и рабочих фотошаблонов, имеющих как прозрачные, так и непрозрачные дефекты.
Методы контроля:
- сравнение с проектными данными (die-to-database или die-to-die);
- сравнение изображений в проходящем и отраженном свете.
Предъявление дефектов оператору в проходящем и отраженном свете на экране монитора, возможность классификации дефектов.
|
Технические характеристики установки
| Размер минимально обнаруживаемого изолированного дефектов, нм |
65 |
| Максимальный размер рабочего поля, мм |
153х153 |
| Размер фотошаблонов, дюйм |
5, 6, 7 |
| Толщина фотошаблонов, мм |
2,3 … 6,4 |
| Производительность контроля, мм2/c |
2,5 (пиксель 90нм) |
| Размер пикселя, нм |
65, 90, 150, 250 |
| Возможность программной фильтрации дефектов в диапазоне, пикселов |
1, 2, … 10 |
| Форматы проектных данных |
ZBA, GDS, ЭМ-5x09, ЭМ-5х89, 3600F, MEBES, а также другие по заказу |
| Контроль фотошаблонов, защищенных пелликлом с высотой рамки до, мм |
4,5 |
| Потребляемая мощность, не более, кВт |
1,8 |
Более подробная информация доступна только для зарегистрированных пользователей
|
