|
ЭМ-6929 Установка контроля дефектности и оценки интегральных характеристик топологии фотошаблонов |
|
Установка ЭМ-6929 является современной разработкой
для технологий уровня 65-45 нм. Установка осуществляет автоматический
контроль первичных и рабочих фотошаблонов, имеющих как прозрачные, так и
непрозрачные дефекты.
Методы контроля:
- сравнение с проектными данными (die-to-database или die-to-die);
- сравнение изображений в проходящем и отраженном свете.
Предъявление дефектов оператору в проходящем и отраженном свете на экране монитора, возможность классификации дефектов.
| ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
|
| Размер минимально обнаруживаемого изолированного дефектов, нм | 65 | | Максимальный размер рабочего поля, мм | 153х153 | | Размер фотошаблонов, дюйм | 5; 6; 7 | | Толщина фотошаблонов, мм | 2.3 … 6.4 | | Производительность контроля, мм2/c | 1.4 (пиксель 65нм) | | Размер пикселя, нм | 65, 130 | | Возможность программной фильтрации дефектов в диапазоне, пикселов | 1; 2; … 10 | | Форматы проектных данных | ZBA, GDS, MEBES, DXF, другие по заказу | | Контроль фотошаблонов, защищенных пелликлом с высотой рамки до, мм | 4.5 | | Потребляемая мощность, не более, кВт | 1.8 |
После завершения контроля имеется возможность представить дефекты в off- и online режимах.
|
Планар (КБТЭМ)
