Планар (КБТЭМ)
 
ЭМ-6929 Установка контроля дефектности и оценки интегральных характеристик топологии фотошаблонов

 

ЭМ-6929 Установка автоматического контроля топологии фотошаблонов

Установка ЭМ-6929 является современной разработкой для технологий уровня 65-45 нм. Установка осуществляет автоматический контроль первичных и рабочих фотошаблонов, имеющих как прозрачные, так и непрозрачные дефекты.

Методы контроля:
- сравнение с проектными данными (die-to-database или die-to-die);
- сравнение изображений в проходящем и отраженном свете.

Предъявление дефектов оператору в проходящем и отраженном свете на экране монитора, возможность классификации дефектов.

 
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Размер минимально обнаруживаемого изолированного дефектов, нм 65
Максимальный размер рабочего поля, мм153х153
Размер фотошаблонов, дюйм5; 6; 7
Толщина фотошаблонов, мм2.3 … 6.4
Производительность контроля, мм2/c1.4 (пиксель 65нм)
Размер пикселя, нм65, 130
Возможность программной фильтрации дефектов в диапазоне, пикселов1; 2; … 10
Форматы проектных данныхZBA, GDS, MEBES, DXF, другие по заказу
Контроль фотошаблонов, защищенных пелликлом с высотой рамки до, мм4.5
Потребляемая мощность, не более, кВт1.8

 

После завершения контроля имеется возможность представить дефекты в off- и online режимах.