|
ЭМ-6329Б И ЭМ-6329Р УСТАНОВКИ АВТОМАТИЧЕСКОГО КОНТРОЛЯ ТОПОЛОГИИ ФОТОШАБЛОНОВ |
|
|
|
ЭМ-6329Б и ЭМ-6329Р предназначены для автоматического контроля первичных и рабочих фотошаблонов, имеющих как прозрачные, так и непрозрачные дефекты: островки, проколы, выступы, вырывы, перемычки между элементами, разрывы элементов, скругления углов, уходы размеров, полутоновые дефекты и т. д.
Автоматический контроль дефектов осуществляется методом сравнения изображения, полученного с фотошаблона в проходящем свете, c эталонным изображением, генерируемым из проектных данных топологии. После завершения автоматического контроля формируется протокол дефектов. Есть возможность представить дефекты на экране оператору.
|
Технические характеристики установки
| |
ЭМ-6329Б |
ЭМ-6329Р |
| Минимальный размер обнаруживаемых дефектов, мкм |
0.15 |
0.25 |
| Время контроля области 100х100мм, мин |
25 |
| Время контроля области 100х100мм с удвоенным пикселом (1,0мкм), мин |
7 |
| Размер рабочего поля, мм |
153х153 |
| Дискретность перемещения координатного стола, нм |
5 |
| Коэффициент увеличения визуального канала, крат |
150, 600, 2000 |
| Диапазон коррекции размеров элементов эталонного изображения, нм |
50 ... 250 |
| Диапазон программной фильтрации дефектов, мкм |
0.25 ... 2.5 |
| Максимальная высота рамки пеликла (с каждой стороны шаблона), мм |
8 |
| Форматы проектных данных |
ZBA,GDS,DXF, ЭМ-5x09, ЭМ-5х89 |
| Потребляемая мощность, не более, кВт |
1.8 |
Более подробная информация доступна только для зарегистрированных пользователей
|
