|
ЭМ-5884 Проекционная фотомонтажная установка для экспонирования полупроводниковых пластин |
|
| ОТЛИЧИТЕЛЬНЫЕ ОСОБЕННОСТИ УСТАНОВКИ ЭМ-5884: |
|
- установка производит фотомонтаж изображения, выбирая нужный фрагмент
на промежуточном фотошаблоне и проецируя его в определенное поле
экспонируемой пластины;
- источник излучения твердотельный лазер;
- промежуточный шаблон размещается на координатном столе, который
может перемещаться по оси Y с высокой точностью относительно подложки;
- возможность работы с пьезоэлектрическими подложками: ниобата лития, танталата лития, пьезокварца, лангасита, лангатата и др.
| ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
|
| Масштаб изображения | 1:5 | | Рабочая длина волны, нм | 354,7 | | Разрешение (минимальный размер), мкм | 0,35 | | Размер рабочего поля, мм | 3.2 х 3.2 | | Числовая апертура объектива | 0,45-0,61 | | Диаметр экспонируемых пластин, мм | 75, 100, 150 | | Размеры фотошаблонов, мм | 127 х 127 |
|
|
Планар (КБТЭМ)