«КБТЭМ-ОМО»
ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО
 
ЭМ-5589 Многоканальный лазерный генератор изображений

 

ЭМ-5589 МНОГОКАНАЛЬНЫЙ ЛАЗЕРНЫЙ ГЕНЕРАТОР ИЗОБРАЖЕНИЙ 

Генератор ЭМ-5589 на платформе ГУФ предназначен для изготовления фотошаблонов СБИС технологического уровня 65 нм, а также для формирования топологических структур на полупроводниковых пластинах в производстве изделий микроэлектроники технологического уровня 250 нм.

Генератор наряду с возможностью изготовления фотошаблонов на заготовках из оптического и кварцевого стекла обеспечивает возможность непосредственного генерирования топологии интегральных микросхем на полупроводниковых пластинах из различных материалов, по так называемой «бесшаблонной» технологии.

Генератор изображения позволяет изготавливать фотошаблоны изделий с проектной нормой 65 нм с обеспечением следующих дополнительных возможностей:

  • возможность изготовления фазосдвигающих шаблонов;
  • возможность изготовления фотошаблонов по технологии двойного маскирования;
  • возможность изготовления фотошаблонов с коррекцией эффекта оптической близости.

 

Технические характеристики установки

Зона экспонирования, мм 215х215
Производительность генератора не менее 1 изделия площадью (100х100) мм2 1 ч. в однопроходном режиме
Номинальный размер лазерного пятна на уровне 0,5 от максимальной интенсивности, не более, нм 150
Однородность размера, не более, нм 20
Неровность края, не более, нм 20
Совмещаемость второго слоя, не более, нм 30