Планар (КБТЭМ)
 
ЭМ-5884 Проекционная фотомонтажная установка для экспонирования полупроводниковых пластин

 

Установка ЭМ-5884 предназначена для проекционного переноса изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину и мультипликации его на пластине при изготовлении СБИС с проектными нормами 0.35мкм. Источник излучения - твердотельный лазер.

 
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Рабочая длина волны, нм354.7
Масштаб изображения1:5
Числовая апертура0.45-0.6
Размер поля изображения, X x Y, мм22 х 22
Размер минимального элемента по полю изображения, мкм0.35
Диаметр обрабатываемых пластин, мм150 или 200
Размеры фотошаблонов, мм153 х 153 х 6,3
Высота рамки пелликлов на фотошаблонах, не более, мм6.0