|
ЭМ-5884 Проекционная фотомонтажная установка для экспонирования полупроводниковых пластин |
|
|
|
Установка ЭМ-5884 предназначена для проекционного переноса изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину и мультипликации его на пластине с фотомонтажем при изготовлении СБИС с проектными нормами 0,35мкм.
|
Технические характеристики установки
| Рабочая длина волны, нм |
354.7 |
| Масштаб изображения |
1:5 |
| Числовая апертура |
0.45-0.6 |
| Размер поля изображения, X x Y, мм |
11 х 22 |
| Размер поля изображения с фотомонтажем, Х х Y, мм |
22 х 22 |
| Размер минимального элемента по полю изображения, мкм |
0.35 |
| Диаметр обрабатываемых пластин, мм |
150 или 200 |
| Размеры фотошаблонов, мм |
153 х 153 х 6,3 |
| Высота рамки пелликлов на фотошаблонах, не более, мм |
6.0 |
|
