«КБТЭМ-ОМО»
ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО
 
ЭМ-5884 Проекционная фотомонтажная установка для экспонирования полупроводниковых пластин

 

Установка ЭМ-5884 предназначена для проекционного переноса изображения фотошаблона на полупроводниковую пластину и мультипликации его на пластине с фотомонтажем при изготовлении СБИС с проектными нормами 0,35мкм.

 

 

Технические характеристики установки 

Рабочая длина волны, нм 354.7
Масштаб изображения 1:5
Числовая апертура 0.45-0.6
Размер поля изображения, X x Y, мм 11 х 22
Размер поля изображения с фотомонтажем, Х х Y, мм 22 х 22
Размер минимального элемента по полю изображения, мкм 0.35
Диаметр обрабатываемых пластин, мм 150 или 200
Размеры фотошаблонов, мм 153 х 153 х 6,3
Высота рамки пелликлов на фотошаблонах, не более, мм 6.0