|
ЭМ-5309 Установка микрофотонаборная оптико-механическая |
|
|
|
Генератор предназначен для изготовления металлизированных фотошаблонов при производстве интегральных схем, полупроводниковых приборов, гибридных схем, фотоэлектрических преобразователей, ЖК-индикаторов, прецизионных печатных плат, фотошаблонов ГИС, специальных измерительных и тестовых шаблонов как в производственных, так и в научно-исследовательских и учебных целях.
Изображение формируется по принципу микрофотонабора. Размер элемента 1 мкм на большом рабочем поле 300х300 мм.
Установка оснащена системой совмещения.
В системе экспонирования генератора используется моноблочный импульсный лазер на молекулярном азоте с длиной волны 337 нм, длительностью светового импульса 6...8 нс и рабочей частотой до 1кГц.
Мощность лазера 240 мВт. |
Технические характеристики установки
| Размеры наборного элемента, мкм |
1...300 |
| Производительность (на регулярных структурах), млн. эксп./ч |
1,7 |
| Размер поля экспонирования, мм |
300х300 |
| Дискретность перемещений координатного стола, нм |
50 |
| Погрешность позиционирования координатного стола, нм |
±150 |
| Дискретность изменения размеров наборного элемента, нм |
100 |
| Угол поворота наборного элемента, ° |
0...90 |
| Дискретность изменения угла поворота, ° |
0,025 |
| Потребляемая мощность, не более, кВт |
3 |
Более подробная информация доступна только для зарегистрированных пользователей
|
