Планар (КБТЭМ)
 
ЭМ-5309 Установка микрофотонаборная оптико-механическая

 

ЭМ-5309 Установка микрофотонаборная оптико-механическая

Генератор предназначен для изготовления металлизированных фотошаблонов при производстве  интегральных схем, полупроводниковых приборов, гибридных схем, фотоэлектрических преобразователей, ЖК-индикаторов, прецизионных печатных плат, фотошаблонов ГИС, специальных измерительных и тестовых шаблонов как в производственных, так и  в научно-исследовательских и учебных целях.

Изображение формируется по принципу микрофотонабора. Размер элемента 1 мкм на большом рабочем поле 300х300 мм.
Установка оснащена системой совмещения.

В системе экспонирования генератора используется моноблочный импульсный лазер на молекулярном азоте с длиной волны 337 нм, длительностью светового импульса 6...8 нс и рабочей частотой до 1кГц.
Мощность лазера 240 мВт.

Генератор предназначен для изготовления металлизированных фотошаблонов при производстве  интегральных схем, полупроводниковых приборов, гибридных схем, фотоэлектрических преобразователей, ЖК-индикаторов, прецизионных печатных плат, фотошаблонов ГИС, специальных измерительных и тестовых шаблонов как в производственных, так и  в научно-исследовательских и учебных целях.

Изображение формируется по принципу микрофотонабора. Размер элемента 1 мкм на большом рабочем поле 300х300 мм.
Установка оснащена системой совмещения.

В системе экспонирования генератора используется моноблочный импульсный лазер на молекулярном азоте с длиной волны 337 нм, длительностью светового импульса 6...8 нс и рабочей частотой до 1кГц.
Мощность лазера 240 мВт.

 
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Размеры наборного элемента, мкм1 ... 300
Производительность (на регулярных структурах), млн. эксп./ч1.7
Размер поля экспонирования, мм300х300
Дискретность перемещений координатного стола, нм50
Погрешность позиционирования координатного стола, нм±150
Дискретность изменения размеров наборного элемента, нм100
Угол поворота наборного элемента, °0 ... 90
Дискретность изменения угла поворота, °0.025
Потребляемая мощность, не более, кВт3