«КБТЭМ-ОМО»
ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО
 
ЭМ-5231 Широкоформатная лазерная установка ремонта фотошаблонов

 

ЭМ-5231 ШИРОКОФОРМАТНАЯ ЛАЗЕРНАЯ УСТАНОВКА РЕМОНТА ФОТОШАБЛОНОВ 

ЭМ-5231 предназначена для ремонта 5”, 6”, 7”, 9” фотошаблонов с непрозрачными и прозрачными дефектами: вырывами, выступами, перемычками, скруглениями разрывов углов и прочими.
Установка позволяет ремонтировать фотошаблоны толщиной от 2.2 мм до 6.45 мм и с различным покрытием: хром, оксид хрома, оксид железа.

Оптическая плотность и адгезионные свойства устраненных прозрачных и непрозрачных дефектов соответствуют стандартам SEMI.
Система соответствует межгосударственному стандарту безопасности лазерной аппаратуры ГОСТ IEC 60825-1-2013, техническому регламенту Таможенного союза 004/2011 (безопасность низковольтного оборудования).

 

Технические характеристики установки

Устранение изолированных дефектов Да
Устранение прилегающих дефектов Да
Ремонт через пелликл Да (75x и 30x)
Работа с файлами дефектов с установки контроля Да
Ремонт через копирование топологии Да
Работа в проходящем свете Да
Работа в отраженном свете Да
Длина волны осветителя 257.5 нм
Длина волны лазеров 257.5 нм Испарение
488 нм Осаждение
Длительность лазерного импульса <300 фс
Рабочие объективы 100x, 75x, 30x, 7.5x
Диапазон перемещения по оси Z 5 мм
Разворот исправляемого участка при испарении +\- 45°
Тип загрузки фотошаблона Полуавтоматический
Стабильность работы ≥90% Uptime
Занимаемая площадь 15 м2

 

Функциональные характеристики установки

Увеличение объективов, крат 100x 75x 30x
Рабочий отрезок объективов 2.2 мм 7.1 мм 7.5 мм
Высота пелликла 6.3 мм 6.3 мм
Минимальный дискрет хода
координатного стола
10 нм 10 нм 10 нм
Погрешность выхода в зону дефекта ±1 мкм ±1 мкм ±1 мкм
Погрешность наведения на край ±50 нм ±70 нм ±100 нм
Непрозрачные дефекты: Да Да Да
Минимальный размер прилегающего дефекта 100 нм 200 нм 500 нм
Минимальный размер изолированного дефекта 150 нм 250 нм 500 нм
Минимальный размер промежутка 400 нм 500 нм 1000 нм
Прозрачные дефекты:
Устранение прозрачных дефектов Да
Минимальный размер прилегающего дефекта 300 нм*
Минимальный размер изолированного дефекта 300 нм*
Минимальный размер промежутка 600 нм*

 

* Свободная зона вокруг дефекта должна быть ≤ 0.5 мкм. Устранение прозрачных дефектов проводится при необходимости в два этапа: осаждение, испарение.