Планар (КБТЭМ)
 
ЭМ-5231 Широкоформатная лазерная установка ремонта фотошаблонов

 

ЭМ-5231 ШИРОКОФОРМАТНАЯ ЛАЗЕРНАЯ УСТАНОВКА РЕМОНТА ФОТОШАБЛОНОВ 

ЭМ-5231 предназначена для ремонта 5”, 6”, 7”, 9” фотошаблонов с непрозрачными и прозрачными дефектами: вырывами, выступами, перемычками, скруглениями разрывов углов и прочими.
Установка позволяет ремонтировать фотошаблоны толщиной от 2.2 мм до 6.45 мм и с различным покрытием: хром, оксид хрома, оксид железа.

Оптическая плотность и адгезионные свойства устраненных прозрачных и непрозрачных дефектов соответствуют стандартам SEMI.
Система соответствует межгосударственному стандарту безопасности лазерной аппаратуры ГОСТ IEC 60825-1-2013, техническому регламенту Таможенного союза 004/2011 (безопасность низковольтного оборудования).


ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
 
Устранение изолированных дефектовДа
Устранение прилегающих дефектовДа
Ремонт через пелликлДа (75x и 30x)
Работа с файлами дефектов с установки контроляДа
Ремонт через копирование топологииДа
Работа в проходящем светеДа
Работа в отраженном светеДа
Длина волны осветителя, нм258
Длина волны лазеров, нм258 (испарение)
488 (осаждение)
Длительность лазерного импульса, фс, не более300
Рабочие объективы100x, 75x, 30x, 7.5x
Диапазон перемещения по оси Z, мм5
Разворот исправляемого участка при испарении, град± 45
Тип загрузки фотошаблонаПолуавтоматический
Стабильность работы, %, не менее90 Uptime
Занимаемая площадь, м2 15

 

ФУНКЦИОНАЛЬНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
 
Увеличение объективов, крат 10075 30
Рабочий отрезок объективов, мм 2.2 7.1 7.5
Высота пелликла, мм 6.3 6.3
Минимальный дискрет хода координатного стола, нм10 1010
Погрешность выхода в зону дефекта, мкм±2 ±2 ±2
Погрешность наведения на край, нм±50 ±70±100
Непрозрачные дефекты:ДаДаДа
Минимальный размер прилегающего дефекта, нм100 200500
Минимальный размер изолированного дефекта, нм150250500
Минимальный размер промежутка, нм4005001000
Прозрачные дефекты:   
Устранение прозрачных дефектовДа
Минимальный размер прилегающего дефекта, нм300*
Минимальный размер изолированного дефекта, нм300*
Минимальный размер промежутка, нм800*
* Свободная зона вокруг дефекта должна быть ≤ 0.5 мкм.
Устранение прозрачных дефектов проводится при необходимости в два этапа: осаждение, испарение.