«КБТЭМ-ОМО»
ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО
 
ЭМ-5209 Лазерная установка многоцелевого назначения для формирования микроизображений

 

ЭМ 5209 ЛАЗЕРНАЯ УСТАНОВКА  МНОГОЦЕЛЕВОГО НАЗНАЧЕНИЯ ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ МИКРОИЗОБРАЖЕНИЙ 

Установка предназначена для изготовления металлизированных промежуточных фотооригиналов, используемых в производстве полупроводниковых приборов и интегральных микросхем различного назначения, фотоэлектронных преобразователей, ЖК-индикаторов и экранов, специальных измерительных и тестовых шаблонов как в производстве, так и в научно-исследовательских целях.

 

Технические характеристики установки

Размер максимального поля экспонирования, мм 300х300
Погрешность позиционирования,не более, мкм ±0,15
Размеры наборных элементов, мкм 0,5÷275
Погрешность размеров наборных элементов, не более, мкм ±0,15
Несовпадение геометрического центра наборного элемента с осью вращения, не более, мкм
0,5
Неровность края элемента, не более, мкм 0,15
Погрешность угла поворота наборного элемента
в диапазоне 0-90°, не более

0,015°
Производительность экспонирования с шагом расположения элементов топологии до 50 мкм, не менее, экспозиций/час
1,7 млн.
Погрешность совмещения, мкм 0,18
Дискретность задания положения элемента, мкм 0,01
Дискретность задания размера элемента, мкм 0,02
Дискретность задания поворота 0,025º
Масштаб проекционного уменьшения объектива 1:80
Длина волны экспонирующего импульсного лазера, нм 337