Планар (КБТЭМ)
 
ЭМ-5209 Лазерная установка многоцелевого назначения для формирования микроизображений

 

ЭМ 5209 ЛАЗЕРНАЯ УСТАНОВКА  МНОГОЦЕЛЕВОГО НАЗНАЧЕНИЯ ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ МИКРОИЗОБРАЖЕНИЙ

Установка предназначена для изготовления металлизированных промежуточных фотооригиналов, используемых в производстве полупроводниковых приборов и интегральных микросхем различного назначения, фотоэлектронных преобразователей, ЖК-индикаторов и экранов, специальных измерительных и тестовых шаблонов как в производстве, так и в научно-исследовательских целях.


ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ

Размер максимального поля экспонирования, мм300х300
Погрешность позиционирования,не более, мкм±0.15
Размеры наборных элементов, мкм0.5 ... 275
Погрешность размеров наборных элементов, не более, мкм±0.15
Несовпадение геометрического центра наборного элемента с осью вращения, не более, мкм
0.5
Неровность края элемента, не более, мкм0.15
Погрешность угла поворота наборного элемента
в диапазоне 0-90°, не более

0.015°
Производительность экспонирования с шагом расположения элементов топологии до 50 мкм, не менее, экспозиций/час
1.7 млн.
Погрешность совмещения, мкм0.18
Дискретность задания положения элемента, мкм0.01
Дискретность задания размера элемента, мкм0.02
Дискретность задания поворота0.025º
Масштаб проекционного уменьшения объектива1:80
Длина волны экспонирующего импульсного лазера, нм337