Планар (КБТЭМ)
 
ЭМ-5171 Установка коррекции микроструктур фазосдвигающих фотошаблонов

 

ЭМ-5171 Установка коррекции микроструктур фазосдвигающих фотошаблонов

Установка коррекции микроструктур фазосдвигающих фотошаблонов ЭМ-5171 предназначена для ремонта фотошаблонов технологического уровня 65 нм.

В основе работы установки используются два метода устранения дефектов покрытия шаблонов в зависимости от их типа: непрозрачные дефекты устраняются путем испарения покрытия шаблона сфокусированным излучением лазера, работающего в импульсно периодическом режиме; ремонт прозрачных дефектов выполняется путем лазерно-химического осаждения металлоорганического соединения. Выход в зону дефекта осуществляется автоматически по информации, получаемой от установок контроля топологии шаблонов.

ОСНОВНЫЕ ОСОБЕННОСТИ:
  • ремонт прозрачных дефектов;
  • ремонт непрозрачных дефектов;
  • телевизионная система наблюдения за процессами ориентации, совмещения и наведения;
  • возможность полуавтоматической загрузки (выгрузки) шаблона.

 

ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
 
Минимальный размер ремонтируемых дефектов: 
- прозрачных, мкм0.8
- непрозрачных, мкм   0.15
Максимальный размер рабочего поля, мм160х160
Разворот элемента, град± 45
Дискретность задания размеров ремонтируемого непрозрачного участка покрытия, не более, мкм0.05
Потребляемая мощность, не более, кВт4

 

ФУНКЦИОНАЛЬНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
 
Увеличение объективов, крат 1208040
Рабочий отрезок объективов, мм7.2 7.17.5
Высота пелликла, мм6.3 6.36.3
Минимальный дискрет хода координатного стола, нм 20 2020
Погрешность выхода в зону дефекта, мкм±2 ±2±2
Погрешность наведения на край, нм±50 ±70±100
Непрозрачные дефекты:ДаДаДа
Минимальный размер прилегающего дефекта, нм100 200500
Минимальный размер изолированного дефекта, нм150 250500
Минимальный размер промежутка, нм300 5001000
Прозрачные дефекты:   
Устранение прозрачных дефектовДа
Минимальный размер прилегающего дефекта, нм400*
Минимальный размер изолированного дефекта, нм400*
Минимальный размер промежутка, нм800*
* Свободная зона вокруг дефекта должна быть ≤ 0.5 мкм.
Устранение прозрачных дефектов проводится при необходимости в два этапа: осаждение, испарение.