«КБТЭМ-ОМО»
ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО
 
ЭМ-5141 Установка ремонта фотошаблонов

 

ЭМ-5141 Установка ремонта фотошаблонов

Установка ремонта фотошаблонов ЭМ-5141 предназначена для ремонта фотошаблонов технологического уровня 65 нм.

В основе работы установки используются два метода устранения дефектов покрытия шаблонов в зависимости от их типа: непрозрачные дефекты устраняются путем испарения покрытия шаблона сфокусированным излучением лазера RYF-1/5FH, работающего в импульсно периодическом режиме; ремонт прозрачных дефектов выполняется путем лазерно-химического осаждения металлоорганического соединения. Выход в зону дефекта осуществляется автоматически по информации, получаемой от установок контроля топологии шаблонов.

Основные особенности:

  • ремонт прозрачных дефектов;
  • ремонт непрозрачных дефектов;
  • телевизионная система наблюдения за процессами ориентации, совмещения и наведения;
  • возможность полуавтоматической загрузки (выгрузки) шаблона.

 

Технические характеристики установки

Минимальный размер ремонтируемых дефектов, мкм:  
- прозрачных 0,45
- непрозрачных   0,15
Максимальный размер рабочего поля, мм
160х160
Разворот элемента,°
0 ... 90
Дискретность задания размеров ремонтируемого непрозрачного участка покрытия, не более, мкм
0,05
Потребляемая мощность, не более, кВт
4

 

Функциональные характеристики установки

Увеличение объективов, крат 100x 75x 30x
Рабочий отрезок объективов 2.2 мм 7.1 мм 7.5 мм
Высота пелликла 6.3 мм 6.3 мм
Минимальный дискрет хода
координатного стола
10 нм 10 нм 10 нм
Погрешность выхода в зону дефекта ±1 мкм ±1 мкм ±1 мкм
Погрешность наведения на край ±50 нм ±70 нм ±100 нм
Непрозрачные дефекты: Да Да Да
Минимальный размер прилегающего дефекта 100 нм 200 нм 500 нм
Минимальный размер изолированного дефекта 150 нм 250 нм 500 нм
Минимальный размер промежутка 300 нм 500 нм 1000 нм
Прозрачные дефекты:
Устранение прозрачных дефектов Да
Минимальный размер прилегающего дефекта 300 нм*
Минимальный размер изолированного дефекта 300 нм*
Минимальный размер промежутка 600 нм*

 

* Свободная зона вокруг дефекта должна быть ≤ 0.5 мкм. Устранение прозрачных дефектов проводится при необходимости в два этапа: осаждение, испарение.