|
ЭМ-5171 Установка коррекции микроструктур фазосдвигающих фотошаблонов |
|
Установка коррекции микроструктур фазосдвигающих
фотошаблонов ЭМ-5171 предназначена для ремонта фотошаблонов
технологического уровня 65 нм.
В основе работы установки используются два метода
устранения дефектов покрытия шаблонов в зависимости от их типа:
непрозрачные дефекты устраняются путем испарения покрытия шаблона
сфокусированным излучением лазера, работающего в импульсно
периодическом режиме; ремонт прозрачных дефектов выполняется путем
лазерно-химического осаждения металлоорганического соединения. Выход в
зону дефекта осуществляется автоматически по информации, получаемой от
установок контроля топологии шаблонов.
- ремонт прозрачных дефектов;
- ремонт непрозрачных дефектов;
- телевизионная система наблюдения за процессами ориентации, совмещения и наведения;
- возможность полуавтоматической загрузки (выгрузки) шаблона.
| ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
|
| Минимальный размер ремонтируемых дефектов: | | | - прозрачных,
мкм | 0.8 | | - непрозрачных, мкм | 0.15 | | Максимальный размер рабочего поля, мм | 160х160 | | Разворот элемента, град | ± 45 | | Дискретность задания размеров ремонтируемого непрозрачного участка покрытия, не более, мкм | 0.05 | | Потребляемая мощность, не более, кВт | 4 |
| ФУНКЦИОНАЛЬНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ |
|
| Увеличение объективов, крат | 120 | 80 | 40 | | Рабочий отрезок объективов,
мм | 7.2 | 7.1 | 7.5 | | Высота пелликла,
мм | 6.3 | 6.3 | 6.3 | | Минимальный дискрет хода координатного стола, нм | 20 | 20 | 20 | | Погрешность выхода в зону дефекта,
мкм | ±2 | ±2 | ±2 | | Погрешность наведения на край,
нм | ±50 | ±70 | ±100 | | Непрозрачные дефекты: | Да | Да | Да | | Минимальный размер прилегающего дефекта,
нм | 100 | 200 | 500 | | Минимальный размер изолированного дефекта,
нм | 150 | 250 | 500 | | Минимальный размер промежутка,
нм | 300 | 500 | 1000 | | Прозрачные дефекты: | | | | | Устранение прозрачных дефектов | – | Да | – | | Минимальный размер прилегающего дефекта,
нм | – | 400* | – | | Минимальный размер изолированного дефекта,
нм | – | 400* | – | | Минимальный размер промежутка,
нм | – | 800* | – | * Свободная зона вокруг дефекта должна быть ≤ 0.5 мкм.
Устранение прозрачных дефектов проводится при необходимости в два этапа: осаждение, испарение. |
|
Планар (КБТЭМ)
