|
ЭМ-5141 Установка ремонта фотошаблонов |
|
|
|
Установка ремонта фотошаблонов ЭМ-5141 предназначена для ремонта фотошаблонов технологического уровня 65 нм.
В основе работы установки используются два метода устранения дефектов покрытия шаблонов в зависимости от их типа: непрозрачные дефекты устраняются путем испарения покрытия шаблона сфокусированным излучением лазера RYF-1/5FH, работающего в импульсно периодическом режиме; ремонт прозрачных дефектов выполняется путем лазерно-химического осаждения металлоорганического соединения. Выход в зону дефекта осуществляется автоматически по информации, получаемой от установок контроля топологии шаблонов.
Основные особенности:
- ремонт прозрачных дефектов;
- ремонт непрозрачных дефектов;
- телевизионная система наблюдения за процессами ориентации, совмещения и наведения;
- возможность полуавтоматической загрузки (выгрузки) шаблона.
|
Технические характеристики установки
| Минимальный размер ремонтируемых дефектов, мкм: |
|
| - прозрачных |
0,45 |
| - непрозрачных |
0,15 |
Максимальный размер рабочего поля, мм
|
160х160
|
Разворот элемента,°
|
0 ... 90
|
Дискретность задания размеров ремонтируемого непрозрачного участка покрытия, не более, мкм
|
0,05
|
Потребляемая мощность, не более, кВт
|
4
|
Функциональные характеристики установки
| Увеличение объективов, крат |
100x |
75x |
30x |
| Рабочий отрезок объективов |
2.2 мм |
7.1 мм |
7.5 мм |
| Высота пелликла |
– |
6.3 мм |
6.3 мм |
Минимальный дискрет хода
координатного стола |
10 нм |
10 нм |
10 нм |
| Погрешность выхода в зону дефекта |
±1 мкм |
±1 мкм |
±1 мкм |
| Погрешность наведения на край |
±50 нм |
±70 нм |
±100 нм |
| Непрозрачные дефекты: |
Да |
Да |
Да |
| Минимальный размер прилегающего дефекта |
100 нм |
200 нм |
500 нм |
| Минимальный размер изолированного дефекта |
150 нм |
250 нм |
500 нм |
| Минимальный размер промежутка |
300 нм |
500 нм |
1000 нм |
| Прозрачные дефекты: |
|
|
|
| Устранение прозрачных дефектов |
– |
Да |
– |
| Минимальный размер прилегающего дефекта |
– |
300 нм* |
– |
| Минимальный размер изолированного дефекта |
– |
300 нм* |
– |
| Минимальный размер промежутка |
– |
600 нм* |
– |
* Свободная зона вокруг дефекта должна быть ≤ 0.5 мкм. Устранение прозрачных дефектов проводится при необходимости в два этапа: осаждение, испарение.
|
