|
ЭМ-5141 Установка ремонта фотошаблонов |
|
|
|
Установка ремонта фотошаблонов ЭМ-5141 предназначена для ремонта фотошаблонов технологического уровня 65 нм.
В основе работы установки используются два метода устранения дефектов покрытия шаблонов в зависимости от их типа: непрозрачные дефекты устраняются путем испарения покрытия шаблона сфокусированным излучением лазера RYF-1/5FH, работающего в импульсно периодическом режиме; ремонт прозрачных дефектов выполняется путем лазерно-химического осаждения металлоорганического соединения. Выход в зону дефекта осуществляется автоматически по информации, получаемой от установок контроля топологии шаблонов.
Основные особенности:
- ремонт прозрачных дефектов;
- ремонт непрозрачных дефектов;
- телевизионная система наблюдения за процессами ориентации, совмещения и наведения;
- возможность полуавтоматической загрузки (выгрузки) шаблона.
|
Технические характеристики установки
| Минимальный размер ремонтируемых дефектов, мкм: |
|
| - прозрачных |
0,45 |
| - непрозрачных |
0,15 |
Максимальный размер рабочего поля, мм
|
160х160
|
Разворот элемента,°
|
0 ... 90
|
Дискретность задания размеров ремонтируемого непрозрачного участка покрытия, не более, мкм
|
0,05
|
Потребляемая мощность, не более, кВт
|
4
|
|
